[实用新型]一种陶瓷盘清洗设备

说明书

本实用新型公开了一种陶瓷盘清洗设备，所述清洗设备包括机架以及沿所述机架长度方向依次设置的上料工位、清洗工位、下料工位；所述机架上设置有移料组件，所述移料组件能够使陶瓷盘在上料工位、清洗工位以及下料工位之间进行运动；所述上料工位包括升降料架、位于所述升降料架正下方的第一输送组件以及与所述第一输送组件对接的第二输送组件；所述清洗工位包括至少一组清洗组件，所述清洗组件包括可转动的定位治具以及位于所述定位治具上方的可转动的管道组；所述下料工位包括第三输送组件以及与所述第三输送组件对接的第四输送组件。本实用新型清洗效果好，清洗效率高，能够满足现代化高速生产的需求。

技术领域

本实用新型属于陶瓷盘清洗技术领域，尤其涉及一种陶瓷盘清洗设备。

背景技术

目前，随着电子行业的快速发展，对于产品的加工精度，需要逐步提高，并且在加工过程中越来越为精细化，质量要求也越来越高。

对于蓝宝石晶片来说，晶片表面的平坦度是一项极为重要的质量参数，在对蓝宝石晶片进行贴片操作过程中，贴片的平坦度将会直接影响到蓝宝石晶片的平坦度，故而用于贴片的陶瓷盘表面的平坦度限位尤为重要。

为提高陶瓷盘表面的平坦度，通常需要对陶瓷盘进行清洗操作，传统的清洗方式为人工清洗，即操作者将陶瓷盘固定，再对陶瓷盘进行刷洗操作，这种清洗方式需要消耗大量人力，清洗的效果较差，容易对陶瓷盘造成损伤，在人工搬运过程中容易造成二次污染，并且人工清洗的方式效率低下，难以满足现代化高速生产的需求。

实用新型内容

本实用新型克服了现有技术的不足，提供一种陶瓷盘清洗设备，以解决现有技术中存在的问题。

为达到上述目的，本实用新型采用的技术方案为：一种陶瓷盘清洗设备，所述清洗设备包括机架以及沿所述机架长度方向依次设置的上料工位、清洗工位、下料工位；其中：所述机架上设置有移料组件，所述移料组件能够使陶瓷盘在上料工位、清洗工位以及下料工位之间进行运动；所述上料工位包括升降料架、位于所述升降料架正下方的第一输送组件以及与所述第一输送组件对接的第二输送组件；所述清洗工位包括至少一组清洗组件，所述清洗组件包括可转动的定位治具以及位于所述定位治具上方的可转动的管道组；所述下料工位包括第三输送组件以及与所述第三输送组件对接的第四输送组件。

本实用新型一个较佳实施例中，所述机架一侧还设置有控制系统，所述控制系统与所述上料工位、清洗工位、下料工位均电性连接。

本实用新型一个较佳实施例中，所述移料组件包括直线驱动模组以及能够沿所述直线驱动模组长度方向进行运动的夹具。

本实用新型一个较佳实施例中，所述升降料架一侧设置有第一气缸，所述第一气缸的活塞杆通过连接架与所述升降料架连接。

本实用新型一个较佳实施例中，所述清洗组件还包括罩体以及位于所述定位治具上方的刷洗结构；所述罩体一侧设置有可打开的出液口，所述定位治具与所述管道组均位于所述罩体内。

本实用新型一个较佳实施例中，所述刷洗结构包括第一电机、位于所述第一电机转轴端的转动块、位于所述转动块上的第二电机以及位于所述第二电机转轴端的刷头。

本实用新型一个较佳实施例中，所述转动块上设置有升降气缸，所述刷头通过连接块与所述升降气缸的活塞杆连接。

本实用新型一个较佳实施例中，所述罩体上设置有伺服电机，所述管道组通过安装块与所述伺服电机的转轴连接。

本实用新型一个较佳实施例中，所述管道组的管道数量为至少三个。

本实用新型一个较佳实施例中，所述定位治具下方设置有驱动电机与驱动气缸，所述驱动电机的转轴与所述定位治具中心位置连接，所述驱动气缸通过连接座与所述定位治具中心位置连接。

本实用新型解决了背景技术中存在的缺陷，本实用新型具备以下有益效果：