[实用新型]一种透射式衍射光学元件的光学成像系统有效
| 申请号： | 201921591582.X | 申请日： | 2019-09-23 |
| 公开（公告）号： | CN210666225U | 公开（公告）日： | 2020-06-02 |
| 发明（设计）人： | 秦应雄;徐家明;张兰天;张怀智 | 申请（专利权）人： | 华中科技大学 |
| 主分类号： | G02B27/42 | 分类号： | G02B27/42 |
| 代理公司： | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人： | 曹葆青;李智 |
| 地址： | 430074 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 透射 衍射 光学 元件 成像 系统 | ||
1.一种透射式衍射光学元件的光学成像系统，其特征在于，包括：光源(1)、透射式衍射光学元件(2)；
所述光源(1)用于为透射式衍射光学元件(2)提供入射光；
所述透射式衍射光学元件(2)为浮雕结构，基于其对入射光进行相位调制，使得透过透射式衍射光学元件(2)形成的目标光场与零极光在光轴上的不同位置成像。
2.根据权利要求1所述的光学成像系统，其特征在于，所述透射式衍射光学元件(2)的浮雕结构的尺寸由复合相位信息确定；
其中，所述复合相位信息包括调制相位信息和聚焦相位信息；
所述调制相位信息用于使所述入射光通过透射式衍射光学元件(2)后生成目标光场；
所述聚焦相位信息用于确定所述目标光场在光轴上的聚焦位置，使目标光场和零级光在光轴上不同位置聚焦。
3.根据权利要求1所述的光学成像系统，其特征在于，所述光源(1)为激光器，所述入射光的能量呈高斯分布。
4.根据权利要求1所述的光学成像系统，其特征在于，还包括光学成像处理模块，位于所述透射式衍射光学元件(2)输出目标光场的一侧，且两者位于同一光轴上，用于调节透射式衍射光学元件(2)近场的像或防止透射式衍射光学元件(2)的损害。
5.根据权利要求4所述的光学成像系统，其特征在于，所述光学成像处理模块为单透镜(3)或两个透镜，用于调节透射式衍射光学元件(2)近场的像的成像位置和成像大小。
6.根据权利要求4所述的光学成像系统，其特征在于，光学成像处理模块为保护镜；用于防止透射式衍射光学元件(2)的损害。
7.根据权利要求4所述的光学成像系统，其特征在于，所述光学成像处理模块为单透镜(3)和保护镜的组合或两个透镜和保护镜的组合。
8.根据权利要求1所述的光学成像系统，其特征在于，所述目标光场的分布为圆形均匀光斑或矩形均匀光斑或环形均匀光斑或平面多点分布。
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