[实用新型]硅酮支架

权利要求书

1.一种硅酮支架，其特征在于，包括：

支架本体，为两端开口的管状结构，所述支架本体的外壁上间隔设有多个凸缘，所述支架本体上具有定位区域，所述支架本体在所述定位区域内开设有多个定位槽，多个所述定位槽均匀排布，并填充满所述定位区域，其中，所述定位区域位于所述支架本体的外壁上，并位于多个所述凸缘之间；或者，所述定位区域位于所述支架本体的内壁上；

薄膜，盖设所述支架本体的所述定位区域上，并密封多个所述定位槽，以在所述定位区域形成多个密封腔。

2.根据权利要求1所述的硅酮支架，其特征在于，所述定位区域呈条形，所述定位区域的延伸方向与所述支架本体的延伸方向相同。

3.根据权利要求2所述的硅酮支架，其特征在于，所述定位区域和所述薄膜均为多个，多个所述定位区域间隔且平行设置，多个所述定位区域的延伸方向均与所述支架本体的延伸方向相同，每个所述薄膜盖设在一个所述定位区域上。

4.根据权利要求1所述的硅酮支架，其特征在于，所述定位区域呈条形，所述定位区域的延伸方向与所述支架本体的延伸方向垂直。

5.根据权利要求4所述的硅酮支架，其特征在于，所述定位区域和所述薄膜均为多个，多个所述定位区域间隔且平行设置，多个所述定位区域的延伸方向均与所述支架本体的延伸方向垂直，每个所述薄膜盖设在一个所述定位区域上。

6.根据权利要求1所述的硅酮支架，其特征在于，所述定位区域和所述薄膜均为多个，且均呈条形，多个所述定位区域中的一部分间隔且平行设置，多个所述定位区域中的一部分的延伸方向与所述支架本体的延伸方向相同，多个所述定位区域中的另一部分间隔且平行设置，多个所述定位区域中的另一部分的延伸方向与所述支架本体的延伸方向垂直，以使多个所述定位区域中的一部分与多个所述定位区域中的另一部分交叉，每个所述薄膜盖设在一个所述定位区域上。

7.根据权利要求6所述的硅酮支架，其特征在于，多个所述定位区域中的一部分均匀排布，多个所述定位区域中的另一部分均匀排布。

8.根据权利要求1所述的硅酮支架，其特征在于，所述定位区域和所述薄膜均为多个，多个所述定位区域中的一部分位于所述支架本体的外壁上，并位于多个所述凸缘之间，多个所述定位区域中的另一部分位于所述支架本体的内壁上，每个所述支架本体的外壁上的所述定位区域与一个所述支架本体的内壁上的所述定位区域相对应，每个所述薄膜盖设在一个所述定位区域上。

9.根据权利要求8所述的硅酮支架，其特征在于，多个所述定位区域均呈条形，位于所述支架本体的外壁上的多个所述定位区域的一部分间隔且平行设置，位于所述支架本体的外壁上的多个所述定位区域的一部分的延伸方向与所述支架本体的延伸方向相同，位于所述支架本体的外壁上的多个所述定位区域的另一部分间隔且平行设置，位于所述支架本体的外壁上的多个所述定位区域的另一部分的延伸方向与所述支架本体的延伸方向垂直，以使位于所述支架本体的外壁上的多个所述定位区域的一部分与位于所述支架本体的外壁上的多个所述定位区域的另一部分交叉，位于所述支架本体的内壁上的多个所述定位区域的一部分间隔且平行设置，位于所述支架本体的内壁上的多个所述定位区域的一部分的延伸方向与所述支架本体的延伸方向相同，位于所述支架本体的内壁上的多个所述定位区域的另一部分间隔且平行设置，位于所述支架本体的内壁上的多个所述定位区域的另一部分的延伸方向与所述支架本体的延伸方向垂直，以使位于所述支架本体的内壁上的多个所述定位区域的一部分与位于所述支架本体的内壁上的多个所述定位区域的另一部分交叉，位于所述支架本体的外壁上的每个所述定位区域与位于所述支架本体的内壁上的一个所述定位区域相对应。

10.根据权利要求1所述的硅酮支架，其特征在于，所述薄膜的厚度为0.1mm~0.2mm。