[实用新型]一种四氟化碳的合成装置

说明书

本实用新型公开了一种四氟化碳的合成装置，包括无碳氰胺化钙储罐、氟化铯储罐、氟气储罐、第一冷凝器、反应釜、第二冷凝器、第三冷凝器以及四氟化碳储罐，反应釜设有进口A、进口B、进口C以及出口，无碳氰胺化钙储罐的出口连接至反应釜的进口A，氟化铯储罐的出口连接至反应釜的进口B，氟气储罐的出口连接至第一冷凝器的物料入口，第一冷凝器的物料出口连接至反应釜的进口C，反应釜的出口连接至第二冷凝器的物料入口，第二冷凝器的物料出口连接第三冷凝器的物料入口，第三冷凝器的物料出口连接至四氟化碳储罐。本实用新型一步合成四氟化碳，操作简单，副反应少；反应温度低，反应可以较好地控制；合成得到的产品收率高且杂质少、纯度高。

技术领域

本实用新型涉及四氟化碳制备领域，具体涉及一种四氟化碳的合成装置。

背景技术

四氟化碳是目前微电子工业中用量最大的等离子蚀刻气体，因其相对低廉的价格，广泛用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻，在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、低温制冷、气体绝缘、泄漏检测剂、印刷电路生产中的去污剂、润滑剂及制动液等方面也有大量应用。四氟化碳的合成方法包括1、氟与碳源直接接触反应得到，但该反应剧烈，不易控制；2、烷烃直接氟化法，虽然操作简单、原料易得，但反应不易控制、反应温度高、产物复杂、收率低；3、氟氯甲烷或氢氟甲烷氟化法，氟氯甲烷选择性高但原料价格昂贵，氢氟甲烷工艺简单、无需催化剂但产物选择性低、副产物较多。

发明内容

本实用新型的目的是提供一种四氟化碳的合成装置，一步合成四氟化碳，且反应的副产物少、反应温度低、收率高，操作简单。

为达到上述目的，本实用新型采用的技术方案是：一种四氟化碳的合成装置，包括无碳氰胺化钙储罐、氟化铯储罐、氟气储罐、第一冷凝器、反应釜、第二冷凝器、第三冷凝器以及四氟化碳储罐，所述反应釜设有进口A、进口B、进口C以及出口，所述无碳氰胺化钙储罐的出口连接至所述反应釜的进口A，所述氟化铯储罐的出口连接至所述反应釜的进口B，所述氟气储罐的出口连接至所述第一冷凝器的物料入口，所述第一冷凝器的物料出口连接至所述反应釜的进口C，所述反应釜的出口连接至所述第二冷凝器的物料入口，所述第二冷凝器的物料出口连接所述第三冷凝器的物料入口，所述第三冷凝器的物料出口连接至所述四氟化碳储罐。

进一步的，所述反应釜为钢制反应釜或镍合金制反应釜或蒙乃尔合金制反应釜。

进一步的，所述反应釜设有加热机构。

进一步的，所述加热机构为加热夹套。

进一步的，所述反应釜内设有用于搅拌所述反应釜内物料的搅拌机构。

进一步的，所述第二冷凝器的尾气出口还连接至氮气回收装置。

进一步的，所述第三冷凝器的尾气出口还连接至氟气回收装置。

进一步的，所述四氟化碳储罐还设有冷却机构。

进一步的，所述冷却机构为冷却夹套。

由于上述技术方案运用，本实用新型与现有技术相比具有下列优点：本实用新型公开的四氟化碳的合成装置，一步合成四氟化碳，操作简单，副反应少；反应温度低，反应可以较好地控制；合成得到的产品收率高且杂质少、纯度高。

附图说明

图1是本实用新型公开的四氟化碳的合成装置的组成示意图。

具体实施方式

结合附图及实施例对本实用新型作进一步描述：