[实用新型]一种真空卷绕镀膜原膜预处理装置

说明书

本实用新型提供一种真空卷绕镀膜原膜预处理装置，它包括真空室和设置在真空室内的收卷机和放卷机，所述收卷机上和所述放卷机上均设置有用于制备金属化薄膜的基膜，在所述基膜的两侧分别设置有正极板和负极板，所述正极板和所述负极板分别连接在直流高频电源的两电极上。该装置能保证金属与基膜的充分接触与结合，并最大限度减少镀层金属孔隙率，从而能有效解决蒸镀时由于基膜自身表面粗糙度不均匀、单峰大高差以及表面浸润性低而导致的不能满足蒸镀时的金属化工艺要求和电容器卷绕芯子的技术要求的缺陷。

技术领域

本实用新型涉及真空卷绕镀膜技术领域，具体的说，涉及了一种真空卷绕镀膜原膜预处理装置。

背景技术

金属化薄膜是薄膜电容器的核心支撑性关键材料，生产工艺是在聚丙烯薄膜上沉积一层或多层金属（目前主要是锌和铝）作为电极，经过薄膜电容器工艺后制成薄膜电容器。金属化薄膜具有耐压高、抗电流冲击、耐电蚀、耐温蚀及温升低等优越自愈性能。薄膜电容器具有很多优良的特性，包括耐电压高、耐电流大、低阻抗、低电感、容量损耗小、漏电流小、温度性能好、充放电速度快、使用寿命长、安全防爆稳定性好等，通过大电流而没有什么损耗。薄膜电容器在目前被大量使用在模拟电路上，包括大功率开关电源、中频电源、高频电源、超频电源、变频器、SVG、DC-LINK、高能密、强脉冲、新能源汽车、高铁机车、电力高压柔直输电等领域。

但是现有技术中若直接在用于制备金属化薄膜的基膜上蒸镀金属薄膜时会出现由于基膜自身表面粗糙度不均匀和单峰大高差以及表面浸润性低而不能满足蒸镀时的金属化工艺要求及电容器卷绕芯子的技术要求的缺陷。

为了解决以上存在的问题，人们一直在寻求一种理想的技术解决方案。

实用新型内容

本实用新型的目的是针对现有技术的不足，从而提供一种真空卷绕镀膜原膜预处理装置。

为了实现上述目的，本实用新型所采用的技术方案是：一种真空卷绕镀膜原膜预处理装置，它包括真空室和设置在真空室内的收卷机和放卷机，所述收卷机上和所述放卷机上均设置有用于制备金属化薄膜的基膜，在所述基膜的两侧分别设置有正极板和负极板，所述正极板和所述负极板分别连接在直流高频电源的两电极上。

基于上述，所述直流高频电源设置在所述真空室的外侧。

基于上述，所述的一种真空卷绕镀膜原膜预处理装置还包括用于改变所述基膜运动方向的导向轮。

基于上述，所述基膜自所述放卷机上放出，所述基膜的两侧经所述正极板和所述负极板处理后卷绕在所述收卷机上。

基于上述，所述正极板和所述负极板均垂直设置。

本实用新型相对现有技术具有实质性特点和进步，具体的说，本实用新型提供的真空卷绕镀膜原膜预处理装置采用大功率、高频直流等离子处理用于制备金属化薄膜的基膜两个表面，该装置能保证金属与基膜的充分接触与结合，并最大限度减少镀层金属孔隙率，从而能有效解决蒸镀时由于基膜自身表面粗糙度不均匀、单峰大高差以及表面浸润性低而导致的不能满足蒸镀时的金属化工艺要求和电容器卷绕芯子的技术要求的缺陷。采用本实施例提供的装置对金属化薄膜中的基膜进行处理后，基膜电晕面达因值一致性由原来的70%提高到98%，薄膜镀层附着力由原来的1.5变为1.1，薄膜电容器卷芯良品率提高2%。

附图说明

图1为本实用新型提供的一种真空卷绕镀膜原膜预处理装置具体结构示意图。

图中：1、真空室；2、直流高频电源；3、收卷机；4、放卷机；5、负极板；6、正极板；7、导向轮。

具体实施方式

下面通过具体实施方式，对本实用新型的技术方案做进一步的详细描述。

实施例1