[实用新型]多晶硅还原炉法兰连接处保温装置有效
申请号: | 201921622069.2 | 申请日: | 2019-09-26 |
公开(公告)号: | CN210833033U | 公开(公告)日: | 2020-06-23 |
发明(设计)人: | 杜俊平;张超;胡艳仓;娄成军;乔兵超 | 申请(专利权)人: | 洛阳中硅高科技有限公司;中国恩菲工程技术有限公司 |
主分类号: | F27B17/00 | 分类号: | F27B17/00;F27D1/00;C01B33/021 |
代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 方芳 |
地址: | 471023 河南省*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 多晶 还原 法兰 连接 保温 装置 | ||
本实用新型公开了一种多晶硅还原炉法兰连接处保温装置,包括弧形支架和弧形隔热套,所述弧形支架有多个,多个所述弧形支架可拆卸地围拼在所述多晶硅还原炉法兰连接处的外周围并组成圆环形支撑结构;所述弧形隔热套有多个,多个所述弧形隔热套一一对应可拆卸地适配固定在多个所述弧形支架的外侧面上,且两两相邻的所述弧形隔热套之间在环形方向上可拆卸地拼接固定。本实用新型的多晶硅还原炉法兰连接处保温装置可以大幅地减少多晶硅还原炉内热量的损失,同时有效地改善工人的作业环境且拆装操作方便。
技术领域
本实用新型涉及多晶硅还原炉技术领域,尤其是涉及一种多晶硅还原炉法兰连接处保温装置。
背景技术
目前,制备太阳能级多晶硅主要采用化学气相沉积法,其最重要的生产设备为罩式气相沉积反应器(Chemical Vapour Deposition,简称CVD反应器),即通常说的还原炉。还原炉筒壁下端与底座以法兰连接,法兰依靠多组螺栓实现紧固,结构较为复杂,且生产过程中,装炉、启炉等需频繁地开启或连接法兰,且日常巡检需对法兰处进行气体检测,检验是否漏气,因此,该部位通常不做保温措施,而还原炉内的操作温度通常控制在1000℃以上,这就造成了还原炉大量热量的损失,同时工人的作业环境严苛。
为解决现有多晶硅还原炉筒壁下端法兰处热损失及工人作业环境差的问题,需要一种实用、操作灵活的法兰保温装置,来解决现存的问题。
实用新型内容
本实用新型旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此,本实用新型的一个目的在于提出一种多晶硅还原炉法兰连接处保温装置,可以大幅地减少多晶硅还原炉内热量的损失,同时有效地改善工人的作业环境且拆装操作方便。
根据本实用新型实施例的多晶硅还原炉法兰连接处保温装置,所述多晶硅还原炉法兰连接处为所述多晶硅还原炉上的筒壁下端与底座之间的法兰连接处,所述保温装置包括:
弧形支架,所述弧形支架有多个,多个所述弧形支架可拆卸地围拼在所述多晶硅还原炉法兰连接处的外周围并组成圆环形支撑结构;
弧形隔热套,所述弧形隔热套有多个,多个所述弧形隔热套一一对应可拆卸地适配固定在多个所述弧形支架的外侧面上,且两两相邻的所述弧形隔热套之间在环形方向上可拆卸地拼接固定。
根据本实用新型实施例的多晶硅还原炉法兰连接处保温装置,具有如下的优点:第一、可以大幅地减少多晶硅还原炉内热量的损失,同时有效地改善了工人的作业环境,防止高温辐射及烫伤;第二、拆装方便,可以解决多晶硅还原炉频繁启炉及日常法兰连接处气体泄漏检测的同时实现法兰连接处的保温。
在一些实施例中,所述弧形支架为弧形钢支架。
在一些实施例中,所述弧形支架的下底面上设有滑轮。
在一些实施例中所述弧形支架的数量和所述弧形隔热套的数量均为四至八个。
在一些实施例中,多个所述弧形支架的形状结构及尺寸完全相同,多个所述弧形隔热套的形状结构及尺寸完全形同。
在一些实施例中,每一所述弧形隔热套包括上隔热套和下隔热套,每一所述弧形隔热套中的所述上隔热套与所述下隔热套之间在上下方向上可拆卸地拼接固定,两两相邻的所述弧形隔热套中的上隔热套之间在环向方向上可拆卸地拼接固定,两两相邻的所述弧形隔热套中的下隔热套之间在环向方向上可拆卸地拼接固定。
进一步地,每一所述弧形隔热套中的所述上隔热套与所述下隔热套之间的可拆卸拼接固定、两两相邻的所述弧形隔热套中的上隔热套之间的可拆卸地拼接固定以及两两相邻的所述弧形隔热套中的下隔热套之间的可拆卸地拼接固定均采用魔术贴固定。
进一步地,每一所述弧形隔热套中的所述上隔热套与所述下隔热套之间的可拆卸拼接固定、两两相邻的所述弧形隔热套中的上隔热套之间的可拆卸地拼接固定以及两两相邻的所述弧形隔热套中的下隔热套之间的可拆卸地拼接固定均采用金属卡扣固定。
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