[实用新型]束流线偏转装置、具有该装置的旋转机架及放射设备

说明书

本实用新型涉及一种束流线偏转装置、具有该装置的旋转机架及放射设备，偏转装置包括固定在支架上的偏转磁铁组件，偏转磁铁组件的安装面具有多个供固定于支架的固定点，其中三个或三个以上的固定点是非线性排布;偏转装置另包括调节机构，例如多个可拆卸分离的调节垫片，可拆卸地设于偏转磁铁组件的安装面上，以调节偏转磁铁组件朝向支架的安装方向的位置。本实用新型具有调节偏转磁铁组件在支架侧位置的效果，将偏转磁铁组件精确的调节到设计位置并保持旋转时偏转磁铁组件在支架上的固着，保证不同能量的加速器离子束流受到偏转磁铁磁场力约束，其运动轨迹符合设计要求。

技术领域

本实用新型涉及带电粒子放射的技术领域，尤其是涉及一种旋转机架束流线的偏转装置、具有该装置的旋转机架及放射设备。

背景技术

离子束放射技术已应用到不同领域，例如质子治疗、负离子照射传输与半导体离子植入等应用。在实际应用上, 对于离子束转向照射与聚焦力使之收敛在束流中心的控制是重要的，以质子治疗为例，质子治疗是放射线治疗的一种。质子进入人体后，在射程终点处形成一个尖锐的剂量峰(称为Bragg峰)。通过调制能量展宽Bragg峰可以使Bragg峰覆盖肿瘤。另外，质子入射通道上能量损失较小，侧散射也很小，其前后左右正常组织所受剂量较小，故具有较好的放射物理学性能。其中，为了达到更尖锐的剂量峰减少非预期的离子束放射能量损耗，如何使离子束产生所需要的偏转方向也是重要的技术。

在现有离子束偏转装置中，偏转磁铁组件基于其庞大重量是固定焊接在旋转支架上，利用旋转支架的旋转以改变离子束照射角度。由于离子束偏转过程需要对偏转磁铁组件进行旋转，以转移改变在加速后的离子束的束流方向,离子束放射过程在多次或连续使用偏转磁铁组件进行旋转后，离子束产生所需要的偏转方向将产生意外偏移而不能稳定控制。

中国发明专利CN101917815B公开了一种重离子或质子同步加速器，包括有八个偏转二极铁和八个同步加速器直线段，所述的八个偏转二极铁和八个同步加速器直线段依次通过环形真空管道交替连接，所述的八个偏转二极铁均为45°偏转二极铁。通常加速器内的转向角度需求为较小的固定值，不需要针对不同照射标的改变或设计合适的转向角度。

中国发明专利CN102387836B公开了一种多场带电粒子癌症治疗设备，设备与负离子束产生、离子束聚焦、带电粒子加速、患者旋转和/或患者呼吸相协调。通过引出系统控制从加速器引出质子束，质子束经过扫描/瞄准/递送系统到达患者接口模块。在扫描/瞄准/递送系统中包含具有多个磁铁的弯曲或转向区段，但未具体教示扫描/瞄准/递送系统中磁铁的固定安装方式。

实用新型内容

本实用新型的其中一目的是提供一种旋转机架束流线的偏转装置，用以实现偏转磁铁组件的可调整与防偏移固定。

本实用新型的次一目的是提供一种旋转机架，用以解决偏转磁铁组件在旋转时的偏移与安装时难以调整的问题。

本实用新型的另一目的是提供一种离子束放射装置，用以实现离子束放射的方向偏转不受到偏转磁铁组件的安装时机械旋转位移而影响离子束放射稳定度。

本实用新型的其中一发明目的是通过以下技术方案得以实现的：

提出一种旋转机架束流线的偏转装置，包括：支架、偏转磁铁组件及第一调节机构。偏转磁铁组件固定在所述支架上，所述偏转磁铁组件的安装面具有多个供固定于所述支架的固定点，其中三个或三个以上的所述固定点是非线性排布。第一调节机构可拆卸地设于所述偏转磁铁组件的安装面上，用以调节所述偏转磁铁组件朝向所述支架的安装方向的位置。

通过采用上述技术方案，利用偏转磁铁组件的安装面具有非线性排布固定点以及安装面上配置的第一调节机构，使偏转磁铁组件的作用区能正确地被修正匹配到离子束的流动路径并持续稳定运作。本实用新型另提出一种旋转机架，包括上述的偏转装置，用以解决偏转装置旋转偏移且偏移后或安装时难以调整的问题。