[实用新型]一种抗炎症结构

权利要求书

1.一种抗炎症结构，其特征在于，包括高分子基底和生物相容性层，所述高分子基底的一侧表面具有微纳米锥形阵列结构，所述微纳米锥形的外周面为粗糙面，所述生物相容性层完全覆盖所述微纳米锥形的外周面，且完全覆盖所述高分子基底的所述一侧表面上未设置所述微纳米锥形的区域。

2.如权利要求1所述的抗炎症结构，其特征在于，所述微纳米锥形的底部直径为10nm-30μm。

3.如权利要求1所述的抗炎症结构，其特征在于，所述微纳米锥形的高度为50nm-50μm。

4.如权利要求1所述的抗炎症结构，其特征在于，所述微纳米锥形之间的间距为50nm-100μm。

5.如权利要求1所述的抗炎症结构，其特征在于，所述微纳米锥形的外周面具有微纳米结构，以形成所述粗糙面，所述微纳米结构尺寸为1nm-5μm。

6.如权利要求1所述的抗炎症结构，其特征在于，所述生物相容性层为高分子材料层或金属层。

7.如权利要求6所述的抗炎症结构，其特征在于，所述高分子材料层为壳聚糖层、海藻酸钠层、琼脂糖层、明胶层、白蛋白层、多肽层、纤维素层、聚乳酸层、聚乙醇酸层、聚乙二醇层、聚二甲基硅氧烷层、聚丙烯酸层、聚酰亚胺层、聚乙烯基亚胺层、聚甲基丙烯酸羟乙酯层、聚甲基丙烯酸甲酯层、聚对苯二甲酸乙二醇酯层、聚碳酸酯层、聚氨酯层、聚己内酯层、聚对二甲苯层、聚四氟乙烯层、聚偏氟乙烯层、聚乙烯层、聚丙烯层、聚苯乙烯层、光刻胶层、光敏树脂层、聚乙烯吡咯烷酮层、聚多巴胺层、聚乙烯醇缩丁醛层、环氧树脂层、乙烯-醋酸乙烯酯共聚物层、聚乳酸-羟基乙酸共聚物层或聚酯纤维层。

8.如权利要求6所述的抗炎症结构，其特征在于，所述金属层为铂层、金层、铂铱合金层、氮化钛层、氧化铱层或铟锡氧化物层。

9.如权利要求6所述的抗炎症结构，其特征在于，所述生物相容性层的厚度为1nm-300nm。

10.如权利要求1所述的抗炎症结构，其特征在于，所述高分子基底为壳聚糖基底、海藻酸钠基底、聚乳酸基底、聚乙二醇基底、聚酰亚胺基底、聚二甲基硅氧烷基底、聚丙烯酸基底、聚乙烯基亚胺基底、聚甲基丙烯酸羟乙酯基底、聚对苯二甲酸乙二醇酯基底、聚对二甲苯基底、光刻胶基底、光敏树脂基底、聚偏氟乙烯基底、聚乙烯基底、聚丙烯基底、聚苯乙烯基底、聚碳酸酯基底、聚四氟乙烯基底、聚甲基丙烯酸甲酯基底、聚乙烯吡咯烷酮基底或聚酯纤维基底。