[实用新型]一种离子氮化局部屏蔽防渗装置

说明书

本实用新型涉及离子氮化技术领域，具体为一种离子氮化局部屏蔽防渗装置，包括屏蔽套及与所述屏蔽套活动连接的待氮化工件，所述屏蔽套为一端具有开口的中空腔室，所述待氮化工件包括氮化部和非氮化部，所述屏蔽套活动连接在所述非氮化部上。本实用新型的离子氮化局部屏蔽防渗装置，通过设置的屏蔽套，可有效避免非氮化部被离子氮化处理，实现局部氮化的目的，从而避免了非氮化部被离子氮化处理后出现的烧融、脆性变高而造成断裂的风险。

技术领域

本实用新型涉及离子氮化技术领域，具体为一种离子氮化局部屏蔽防渗装置。

背景技术

离子氮化作为强化金属表面的一种利用辉光放电现象，将含氮气体电离后产生的氮离子轰击零件表面加热并进行氮化，获得表面渗氮层的离子化学热处理工艺，广泛适用于铸铁、碳钢、合金钢、不锈钢及钛合金等。零件经离子渗氮处理后，可显著提高材料表面的硬度，使其具有高的耐磨性、疲劳强度，抗蚀能力及抗烧伤性等。

而在对一些工件进行离子氮化处理时，需要将工件中的一部分进行屏蔽处理，防止该部分被氮化处理后，出现的烧融、脆性变高而造成断裂的风险，因此，需要一种屏蔽防渗装置，这样，在进行离子氮化时，非氮化部可以做到无氮化层，而氮化部有氮化层，实现局部氮化的效果。

鉴于上述的要求，本实用新型提供了一种离子氮化局部屏蔽防渗装置，可实现局部氮化的目的。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种离子氮化局部屏蔽防渗装置，通过设置的屏蔽套，可有效避免非氮化部被离子氮化处理，实现局部氮化的目的，从而避免了非氮化部被离子氮化处理后出现的烧融、脆性变高而造成断裂的风险。

为达到上述目的，本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：

一种离子氮化局部屏蔽防渗装置，包括屏蔽套及与所述屏蔽套活动连接的待氮化工件，所述屏蔽套为一端具有开口的中空腔室，所述待氮化工件包括氮化部和非氮化部，所述屏蔽套活动连接在所述非氮化部上。

较佳地，所述屏蔽套的内壁上开设有内螺纹，所述非氮化部上开设有与所述内螺纹相配合的外螺纹。

较佳地，还包括紧固件，所述屏蔽套上开设有环形卡槽，所述紧固件卡接在所述环形卡槽内。

较佳地，所述环形卡槽设置为2个。

较佳地，所述紧固件内固定有密封条。

较佳地，所述密封条两侧凸出于所述紧固件。

较佳地，所述密封条两侧分别凸出于所述紧固件1-2mm。

较佳地，所述屏蔽套的上侧内壁上开设有环形凹槽，所述环形凹槽内安装有密封圈。

由于上述技术方案的运用，本实用新型与现有技术相比具有下列有益效果：

（1）本实用新型的离子氮化局部屏蔽防渗装置，通过设置的屏蔽套，可有效避免非氮化部被离子氮化处理，实现局部氮化的目的，从而避免了非氮化部被离子氮化处理后出现的烧融、脆性变高而造成断裂的风险；

（2）本实用新型通过设置的紧固件及在紧固件内固定安装的密封条，可使屏蔽套与非氮化部固定更牢固，并进一步加强屏蔽的效果，这样，离子氮化时，不能在屏蔽的区域内产生辉光，故不能产生渗层，起到保护非氮化部的作用；

（3）本实用新型通过在屏蔽套内开设的环状凹槽内安装密封圈，则进一步提高屏蔽的效果，使离子氮化时，不会在非氮化部上产生辉光，即不能产生渗层，起到保护非氮化部的目的。

附图说明

图1是本实用新型的离子氮化局部屏蔽防渗装置的结构示意图；

图2是图1中A部分的放大图；

图3是紧固件的结构示意图；