[实用新型]一种农田土壤Cd污染处理药物喷洒装置有效
申请号: | 201921663729.1 | 申请日: | 2019-10-08 |
公开(公告)号: | CN210701678U | 公开(公告)日: | 2020-06-09 |
发明(设计)人: | 马志刚;张有军;薛清泼;牛真茹;从辉;刘仕刚;李智;张晓鹏;蔡童 | 申请(专利权)人: | 天津华勘环境治理工程有限公司 |
主分类号: | B09C1/08 | 分类号: | B09C1/08 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 300171 天津市河*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 农田 土壤 cd 污染 处理 药物 喷洒 装置 | ||
本实用新型公开了一种农田土壤Cd污染处理药物喷洒装置,包括机壳、电机、旋转臂、调节轮和滑动块,所述机壳顶部设有加料口,且机壳通过加料口与储液槽连接,所述电机螺栓固定在机壳顶部,且电机通过传动轴与转盘连接,所述旋转臂中部通过固定轴与机壳连接,且旋转臂表面设有限位槽,所述调节轮侧面一体化连接有限位块,且调节轮侧面设有齿轮,所述滑动块中部设有限位架,且滑动块前端设有活塞。该农田土壤Cd污染处理药物喷洒装置通过活塞的滑动给储液槽增压,从而使得喷洒口中部的瓣膜打开对药物进行喷洒,提高了装置的喷洒均匀度,同时,通过调节板与限位块组合滑动,实现了装置间断喷洒药物的操作,极大地降低了药物的损耗。
技术领域
本实用新型涉及土壤Cd污染处理技术领域,具体为一种农田土壤Cd污染处理药物喷洒装置。
背景技术
土壤中金属污染是一个十分严重的问题,农田的土壤在被Cd污染后,会失去原本的肥力,从而无法种植农作物,为改治理受污染的土壤,需要使用专门的药物喷洒装置对土壤进行治理。
现有的药物喷洒装置多为手动增压喷洒,药物喷洒起来不均匀,药物的覆盖率不高,同时,装置使用时无法对药物进行间隔喷洒,容易造成土壤重复受药,药物损耗量大。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种农田土壤Cd污染处理药物喷洒装置,以解决上述背景技术中提出的药物喷洒不均匀,喷射覆盖率不高,无法间隔喷洒,药物损耗量大的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种农田土壤Cd污染处理药物喷洒装置,包括机壳、电机、旋转臂、调节轮和滑动块,所述机壳顶部设有加料口,且机壳通过加料口与储液槽连接,并且储液槽前端设有喷洒口,所述电机螺栓固定在机壳顶部,且电机通过传动轴与转盘连接,并且转盘表面一体化连接有限位杆,所述旋转臂中部通过固定轴与机壳连接,且旋转臂表面设有限位槽,并且旋转臂前端一体化连接有调节板,所述调节轮侧面一体化连接有限位块,且调节轮侧面设有齿轮,并且调节轮两侧通过旋转轴与机壳连接,所述滑动块中部设有限位架,且滑动块前端设有活塞。
优选的,所述转盘的直径与限位槽的长度相同,且转盘垂直于限位杆,并且限位杆的直径与限位槽的宽度相同。
优选的,所述调节板垂直于旋转臂前端板面,且调节板与旋转臂的水平夹角均为30°,并且调节板的宽度与限位块的长度相同。
优选的,所述调节轮圆周表面等距分布有限位块,且调节轮表面切线垂直于限位块,并且调节轮的轴线与齿轮的轴线共线。
优选的,所述滑动块为“L”型齿槽结构,且滑动块的宽度与限位架的宽度相同,并且滑动块的长度与储液槽的长度相同。
优选的,所述储液槽为中空的圆筒形结构,且储液槽的直径与活塞的直径相同,并且储液槽关于机壳中心线对称。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:该农田土壤Cd污染处理药物喷洒装置通过活塞的滑动给储液槽增压,从而使得喷洒口中部的瓣膜打开对药物进行喷洒,提高了装置的喷洒均匀度,同时,通过调节板与限位块组合滑动,实现了装置间断喷洒药物的操作,极大地降低了药物的损耗;
1.启动电机可以带动滑动块整体推动活塞贴合储液槽滑动,从而有效将储液槽中的药物从喷洒口的瓣片压出,确保了装置喷洒药物时分散均匀,提高了装置的喷洒精度;
2.旋转臂带动表面的调节板左右往复运动,从而推动调节轮侧边的限位块移动,使得调节轮可以单向间隔转动,确保了药物可以间隔喷洒,极大地节省了药物的损耗。
附图说明
图1为本实用新型侧视结构示意图;
图2为本实用新型旋转臂的俯视结构示意图;
图3为本实用新型调节轮的正视结构示意图。
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