[实用新型]用于陶瓷真空管的喷釉机有效
申请号: | 201921699045.7 | 申请日: | 2019-10-11 |
公开(公告)号: | CN211517892U | 公开(公告)日: | 2020-09-18 |
发明(设计)人: | 陈脉;陈舒庆 | 申请(专利权)人: | 湖北新石器电陶科技有限公司 |
主分类号: | B28B11/04 | 分类号: | B28B11/04 |
代理公司: | 荆门市森皓专利代理事务所(普通合伙) 42253 | 代理人: | 王丽 |
地址: | 448000 湖*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 陶瓷 真空管 喷釉机 | ||
本实用新型涉及陶瓷真空管生产技术领域,公开了一种用于陶瓷真空管的喷釉机,包括箱体、釉粉收集箱以及设置于箱体内的产品流水线、风琴罩组件、喷釉组件和自转组件,釉粉收集箱将多余的釉粉收集防止扩散,风琴罩组件带动喷釉组件上下运动,自转组件使产品在喷釉时自转,通过风琴罩组件、喷釉组件和自转组件相互配合提高了喷釉效率、保证了设备的正常运行,同时减少了材料的浪费。
技术领域
本实用新型涉及陶瓷真空管生产技术领域,具体涉及一种用于陶瓷真空管的喷釉机。
背景技术
陶瓷真空管的表面存在许多毛细孔,喜欢藏污纳垢,特别是被触碰后会留下印记,而且清洁这些印记非常困难,所以为了提高产品的美观性以及方便产品表面的清洁工作,需要对陶瓷真空管的表面作施釉处理。
施釉时采用的喷釉机单个喷釉工位设置的都是单喷头,喷釉效率比较低,而且需要对喷头角度进行人工调整,人工调整的角度往往会不精确,导致在陶瓷真空管上喷釉不均匀,影响到产品的质量。喷釉多余的釉粉可能会四处飘散,浪费材料,同时污染环境。釉粉降落在设备或者传动机构上会严重影响其正常运行。
实用新型内容
本实用新型要解决的技术问题就在于:针对上述陶瓷真空管喷釉时存在的喷釉效率比较低、釉粉浪费严重和釉粉降落在设备或传动机构影响其正常运行等问题,实用新型提供了一种用于陶瓷真空管的喷釉机,提高了喷釉效率、保证了设备的正常运行,同时减少了材料的浪费。
为解决上述技术问题,本发明提出的技术方案为:
用于陶瓷真空管的喷釉机,包括:
箱体,其上设有进料口和出料口,沿所述进料口至出料口方向上设有一组防釉盖板;
釉粉收集箱,其位于箱体的一侧;
产品流水线,其沿所述进料口至出料口方向穿过箱体且与防釉盖板相对应,所述产品流水线上通过产品夹具装配有若干产品,所述防釉盖板上设有与产品夹具对应的避让槽;
风琴罩组件,其位于箱体内部,包括伺服电机、风琴罩模组滑块和风琴罩,所述伺服电机位于风琴罩的顶部,所述风琴罩模组滑块装配在风琴罩的中部,所述伺服电机的输出端设有丝杆,所述风琴罩模组滑块活动装配在丝杆上,所述风琴罩模组滑块上设有与丝杆对应的内螺纹;
喷釉组件,包括平行设置的两组喷釉单元以及悬臂安装板,所述两组喷釉单元通过一组立臂固定在悬臂安装板上,所述悬臂安装板上设有与立臂对应的安装座,所述悬臂安装板装配在风琴罩模组滑块上,所述喷釉单元通过软管连接有一个釉箱;
自转组件,其位于产品流水线一侧且与产品夹具相配合。
进一步地,所述喷釉单元包括横杆以及均匀布置在横杆上的若干喷枪,所述喷枪的喷射角度可调。
进一步地,所述箱体底部设有风琴罩支撑平台,所述风琴罩组件底部设有滑台,所述滑台底部设有一组线性滑块,所述风琴罩支撑平台上水平设有一组平行的圆柱导轨,所述滑台通过线性滑块滑动装配在圆柱导轨上,所述滑台底部设有丝杆连接件,所述丝杆连接件沿圆柱导轨方向上活动装配有调节丝杆,所述丝杆延伸至箱体外并在端部设有手摇轮手柄。
进一步地,所述滑台上设有与风琴罩对应的支撑立板,所述支撑立板通过一组斜支撑固定,所述支撑立板顶部垂直设有一组拖链架支撑板,所述拖链架支撑板另一端设有一组拖链架,所述拖链架底部固定在滑台上,所述悬臂安装板上设有一组与拖链架对应的拖链连接板,单个所述拖链架与对应拖链连接板之间设有与连接喷釉单元的软管对应的拖链。
进一步地,所述防釉盖板的两端分别通过伸缩组件活动装配在进料口和出料口的底部,所述箱体上设有与伸缩组件对应的支撑杆,所述伸缩组件包括水平设置的伸缩气缸、滑块和导杆,所述伸缩气缸固定在支撑杆上,所述伸缩气缸的活塞杆端部通过连接耳片与滑块连接,所述导杆两端分别固定在支撑杆上,所述滑块活动装配在导杆上。
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