[实用新型]一种用于观察强光源的减光滤光片有效
申请号: | 201921712035.2 | 申请日: | 2019-10-12 |
公开(公告)号: | CN210775900U | 公开(公告)日: | 2020-06-16 |
发明(设计)人: | 吴临红;刘军;邹维;刘辉;叶永洋;刘功豪 | 申请(专利权)人: | 江西水晶光电有限公司 |
主分类号: | G02B5/20 | 分类号: | G02B5/20;C23C14/30 |
代理公司: | 鹰潭市智埠专利代理事务所(普通合伙) 36131 | 代理人: | 李水娣 |
地址: | 335000 江西*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 观察 光源 滤光 | ||
本实用新型提供了一种用于观察强光源的减光滤光片,包括由玻璃制成的基底,该基底上从内至外依次镀有第一二氧化钛层、第一铬层、第一二氧化硅层、第二二氧化钛层、第二铬层、第三二氧化钛层、第二二氧化硅层、第四二氧化钛层、第三铬层、第五二氧化钛层、第三二氧化硅层、第六二氧化钛层、第四铬层、第七二氧化钛层、第四二氧化硅层。本实用新型提供以常用的二氧化硅、二氧化钛和高反射高吸收的铬金属为原料,结合滤光曲线和加工工艺,在玻璃表面以特定顺序和厚度进行镀膜,形成一种用于观察强光源的滤光片,不仅具有光衰减特性,并且制造成本低、经济效益高。
技术领域
本实用新型涉及一种滤光片,尤其是指一种用于观察强光源的减光滤光片。
背景技术
电子束蒸发镀膜机在工作时,由电子枪发出高能电子束通过磁场偏转后照射在坩埚内材料表面,使材料熔化蒸发。在此过程中电子束照射在坩埚内材料表面的位置是蒸发工艺中的重要条件,位置的偏移对产品内外圈的光学曲线一致性产生影响,所以需要对光斑的位置进行观察确认。现多采用数码像机对光斑进行监控,但是因为高能电子束光斑光能量强度大,监视设备不能直接进行观察,需要在镜头前增加减光滤光片对光斑光强度进行衰减。现在市面上使用的是有掺杂金属制备的玻璃以吸收方式对强光进行衰减,达到可以观察强光的作用,但掺杂金属制备的吸收玻璃单价较贵,使镀膜成本增加。
实用新型内容
(一)要解决的技术问题
本实用新型目的在于以常用的二氧化硅、二氧化钛和铬金属为原料,提供一种用于观察强光源的、具有光衰减特性的、经济效益高的滤光片。为实现上述之目的,本实用新型采取如下技术方案:
(二)技术方案
一种用于观察强光源的减光滤光片,包括由玻璃制成的基底,该基底上从内至外依次镀有第一二氧化钛层、第一铬层、第一二氧化硅层、第二二氧化钛层、第二铬层、第三二氧化钛层、第二二氧化硅层、第四二氧化钛层、第三铬层、第五二氧化钛层、第三二氧化硅层、第六二氧化钛层、第四铬层、第七二氧化钛层、第四二氧化硅层;各层的厚度分别为142.5-143nm、13-13.5nm、151-152nm、12-13nm、15-15.5nm、35-35.5nm、89.5-90nm、34.5-35nm、16-16.5nm、45.5-46nm、94.5-95nm、46-46.5nm、10.5-11nm、40-40.5nm、19-21nm。
进一步,所述各层的厚度分别为142.87nm、13.21nm、151.48nm、12.5nm、15.31nm、35.09nm、89.97nm、34.97nm、16.16nm、45.62nm、94.69nm、46.48nm、10.63nm、40.39nm、20nm。
(三)有益效果
本实用新型与现有技术相比具有明显的优点和有益效果,具体而言,以常用的二氧化硅、二氧化钛和高反射高吸收的铬金属为原料,结合滤光曲线和加工工艺,在玻璃表面以特定顺序和厚度进行镀膜,形成一种用于观察强光源的滤光片,不仅具有光衰减特性,并且制造成本低、经济效益高。
附图说明
下面参照附图结合实施例对本实用新型作进一步的描述。
图1是本实用新型膜层结构示意图;
图2是本实用新型的透光率光谱示意图。
附图标号说明:
1、基底 2、第一二氧化钛层
3、第一铬层 4、第一二氧化硅层
5、第二二氧化钛层 6、第二铬层
7、第三二氧化钛层 8、第二二氧化硅层
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