[实用新型]一种提高植砂均匀性的静电植砂结构及其静电植砂设备

权利要求书

1.一种提高植砂均匀性的静电植砂结构，包括输送带(1)、上极板(3)、下极板(4)；其中，

上极板(3)布置于下极板(4)上方，用于产生使砂粒向上运动的电力场；

输送带(1)布置于上极板(3)与下极板(4)之间，用于输送砂粒；基材行走路径(6')位于上极板(3)与输送带(1)之间，基材行走路径(6')是植砂时基材(6)行走的路径；

其特征在于：还包括筛网(8)，筛网(8)布置于输送带(1)与基材行走路径(6')之间，用于均匀化砂粒(7)，以使得砂粒(7)先上升穿过筛网(8)被均匀化后、再附着于基材(6)上。

2.如权利要求1所述的静电植砂结构，其特征在于：还包括收放卷装置，通过收放卷装置(9)可使筛网(8)在输送带(1)与基材行走路径(6')之间行走。

3.如权利要求2所述的静电植砂结构，其特征在于：所述收放卷装置(9)包括布置于上极板(3)与下极板(4)一侧的放卷轴(91)与放卷导辊(92)，以及布置于上极板(3)与下极板(4)另一侧的收卷导辊(93)与收卷轴(94)；呈卷状的筛网(8)安装到放卷轴(91)上后，筛网(8)通过放卷导辊(92)穿过输送带(1)与基材行走路径(6')之间，再通过收卷导辊(93)连接到收卷轴(94)上。

4.如权利要求3所述的静电植砂结构，其特征在于：放卷导辊(92)或/和收卷导辊(93)上连接有张紧机构，用于张紧筛网(8)。

5.如权利要求3所述的静电植砂结构，其特征在于：放卷导辊(92)或/和收卷导辊(93)上连接有振动机构，用于振动筛网(8)。

6.如权利要求1所述的静电植砂结构，其特征在于：筛网的宽度b不小于上极板的宽度b1或/和下极板的宽度b2。

7.如权利要求1所述的静电植砂结构，其特征在于：筛网距输送带的距离h1小于筛网距基材行走路径的距离h2。

8.如权利要求1所述的静电植砂结构，其特征在于：筛网(8)的网孔目数为5目-600目。

9.如权利要求1所述的静电植砂结构，其特征在于：输送带(1)的输送面位于上极板(3)与下极板(4)之间。

10.一种静电植砂设备，其特征在于：包括如权利要求1-9任一项所述的静电植砂结构。