[实用新型]无焦点检查装置有效
申请号: | 201921716024.1 | 申请日: | 2019-10-14 |
公开(公告)号: | CN211629040U | 公开(公告)日: | 2020-10-02 |
发明(设计)人: | 李撰权;全文营;许贞;洪德和;赵银河 | 申请(专利权)人: | 株式会社高迎科技 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66;G01B11/26 |
代理公司: | 北京青松知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11384 | 代理人: | 郑青松 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 焦点 检查 装置 | ||
1.一种无焦点检查装置,其中,包括:
结构光源,其依次照射具有一个相位范围的多个结构光;
至少一个透镜,其针对所述多个结构光,分别调整与所述相位范围中各个相位对应的光的路径,使得与所述相位范围中的一个相位对应的光到达对象体表面上一部分区域的各点;
图像传感器,其捕获所述多个结构光分别从所述一部分区域反射而生成的多个反射光;及
处理器,其与所述结构光源、所述至少一个透镜及所述图像传感器电气连接;
所述处理器从所述图像传感器获得关于所述多个反射光各自的光量值,
以关于所述多个反射光各自的光量值为基础,导出所述多个反射光的相位值,导出所述对象体表面相对于基准面的角度。
2.根据权利要求1所述的无焦点检查装置,其中,还包括:
存储器,其存储显示所述对象体表面的角度及所述多个反射光的相位值之间的关系的关联信息,与所述处理器电气连接。
3.根据权利要求2所述的无焦点检查装置,其中,
所述处理器基于所述多个反射光的相位值及从所述存储器获得的所述关联信息,导出所述对象体表面的角度。
4.根据权利要求1所述的无焦点检查装置,其中,
所述相位范围并非所述结构光的周期的整数倍。
5.根据权利要求4所述的无焦点检查装置,其中,
所述相位范围大于与所述结构光的半周期相应的相位范围,小于与所述结构光的一个周期相应的相位范围。
6.根据权利要求1所述的无焦点检查装置,其中,
还包括:第一光束分离器,其位于与所述基准面垂直的第一轴上,调整路径而使得从所述结构光源照射的所述多个结构光分别朝向所述对象体表面;
所述图像传感器位于所述第一轴上。
7.根据权利要求1所述的无焦点检查装置,其中,
具有与同所述相位范围相应的所述结构光的平均光量相应的光量的光,到达所述对象体表面上的所述一部分区域的各点。
8.根据权利要求6所述的无焦点检查装置,其中,包括:
第一光圈,其使从所述结构光源照射的所述多个结构光分别穿过所述第一光束分离器;及
第二光圈,其使从所述对象体表面反射的所述多个反射光分别穿过所述图像传感器;
所述光量值,基于由所述结构光穿过所述第一光圈后从所述对象体表面反射而生成的所述反射光,穿过所述第二光圈并被所述图像传感器所捕获的光量而决定,
穿过所述第二光圈的所述反射光的光量,根据所述对象体表面的角度而变化。
9.根据权利要求1所述的无焦点检查装置,其中,
所述多个结构光分别由一个结构光按预先设置的相位间隔进行相移而生成。
10.根据权利要求6所述的无焦点检查装置,其中,
所述结构光源包括:
光源,其照射照射光;
扩散板,其使所述照射光扩散;
第二光束分离器,其透过所述扩散的照射光的第一偏光,使所述扩散的照射光的第二偏光反射;及
图案发生器,其使所述透过的第一偏光的一部分作为第一偏光进行反射,使所述透过的第一偏光的另一部分变换成第二偏光进行反射;
所述第二光束分离器透过所述反射的第一偏光,并反射所述变换的第二偏光,使所述变换的第二偏光朝向所述第一光束分离器,从而生成所述多个结构光。
11.根据权利要求10所述的无焦点检查装置,其中,
所述图案发生器为LCoS。
12.根据权利要求1所述的无焦点检查装置,其中,
所述多个结构光分别具有沿第一方向或与所述第一方向垂直的第二方向的图案。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造