[实用新型]清洁刷具结构

说明书

一种清洁刷具结构，包含载体；以及双向螺旋式清洁单元，由数个清洁豆分别以双向螺旋形式定位排列于该载体的表面上，以及沿一基线以不等间距排列于该载体中心上，形成数条由该载体的中心向两端外侧以不同方向螺旋盘绕的双向螺旋形，而该些清洁豆形成围绕该载体并自中心向两端外侧沿周向延伸的二环形螺旋曲线通道；清洁电子组件时，附着于该载体上的液体或清洁剂可沿该环形螺旋曲线通道上数条螺旋切线方向排出。借此，本清洁刷具在旋转时兼具正、反方向，可造成由中心向两端外侧推出的水流的流场，可较传统矩阵式清洁结构更容易把脏污排走，也较单向螺旋式清洁结构更能提升水流分布，进而达到接触面大、清洁效率快以及去除脏污率高的功效。

技术领域

本实用新型有关于一种清洁刷具结构，尤指涉及一种在清洗时，双螺旋式可以将脏污具方向性的由中心向两端外侧推出，可提供更有效的清洁效率，并能有效提升水流分布的结构。

背景技术

一般的精密电子组件（如：硅晶圆、硬盘、半导体及CPU芯片）所需的清洁结构，如中国台湾专利第419401号的“清洁用海绵辊子”，其是由具有弹性的聚乙烯醇缩乙醛系多孔质体海绵所构成，同时在侧部表面配设多数的突起，并使该突起的顶部旋转接触于被清洁体的清洁面来清洁被清洁体，其中该些突起呈现矩阵形式排列，而每一突起的顶部由光滑度高的表层部所形成；借此，可配合所需的致动机构以表面配设的多数突起，而达到清洁精密电子组件的功效。

又如中国台湾专利第I286096号的“于可转动基座上制造单片多孔垫之方法及材料”，其包括可转动基座，其包括一内表面及一外表面；多孔垫材料，其覆盖该基座的至少一部分的外表面，以用于自基材移除材料；该多孔垫材料与该基座结合，而维持突出物于该多孔垫材料表面上的对准，且该些突出物在该多孔垫材料表面上呈现矩阵形式排列；借此，可配合所需的致动机构以突出物达到清洁精密电子组件的功效。

再如中国台湾专利第M362051号的“清洁结构”与第201347862号的“凹型结核海绵刷”，其包括一载体/刷具；以及多数清洁单元/结核，分别设于该载体/刷具的表面上而呈矩阵形式排列，且各清洁单元/结核的端面分别具有一凹弧部/凹型表面；借此，使各清洁单元/结核利用其端面凹弧部/凹型表面，而达到接触面大、清洁效率快以及去除脏污率高的功效。

虽然上述四种已知的“清洁用海绵辊子”、“于可转动基座上制造单片多孔垫之方法及材料”、“清洁结构”与“凹型结核海绵刷”皆可用于清洁精密电子组件，但是由于该“清洁用海绵辊子”的突起呈现矩阵形式排列，而突起的顶部是由光滑度高的表层部所形成，且该突起的顶部为一平面；该“于可转动基座上制造单片多孔垫之方法及材料”的突出物成型后亦为一平面且呈矩阵形式排列，因此，其二者于清洁时，无法有效接触原本即为不规则面的精密电子组件；而该“清洁结构”与“凹型结核海绵刷”的清洁单元/结核端面虽然设有凹弧部/凹型表面，可有效接触具有不规则面的精密电子组件，但其清洁单元/结核成型后亦呈矩阵形式排列，因此，此四者于清洁时，容易导致颗粒（particle）乱喷无方向性，无法将颗粒有方向性的清除之外，反而使颗粒可能会截留于清洁结构与精密电子组件之间，并刮擦精密电子组件而造成损害

另外，本案申请人曾针对上述已知技术提出一种如中国台湾专利第M576921号的“清洁刷结构”，其利用由数个清洁豆分别以螺旋形式定位排列于载体表面上的螺旋式清洁单元，可在水平式清洗运动时，将颗粒由一方推至另一方，虽然可较传统矩阵式清洁结构提供更有效的清洁效率，然而此结构的螺旋式清洁单元为单向螺旋式，仅能将脏污以单一水平方向性地推开，因此其平行方向的水流只能造成一个流场分布。

鉴此，本创作人留意于前述的问题点，而提供本创作，以可提升水流分布而获得更有效的清洁效率。

实用新型内容