[实用新型]基于介质薄膜同质分层结构的高压金属化薄膜电容器芯子有效
申请号: | 201921739726.1 | 申请日: | 2019-10-17 |
公开(公告)号: | CN210606976U | 公开(公告)日: | 2020-05-22 |
发明(设计)人: | 李根;安茂春 | 申请(专利权)人: | 铜陵华星天束科技有限公司 |
主分类号: | H01G4/33 | 分类号: | H01G4/33;H01G4/32;H01G4/38;H01G4/08 |
代理公司: | 沈阳易通专利事务所 21116 | 代理人: | 于丽丽 |
地址: | 244000 安徽省铜陵市*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基于 介质 薄膜 同质 分层 结构 高压 金属化 电容器 芯子 | ||
1.基于介质薄膜同质分层结构的高压金属化薄膜电容器芯子,其特征在于,该高压金属化薄膜电容器芯子,包括两层层叠卷绕的同质分层结构化薄膜,两层同质分层结构化薄膜的结构完全相同,所述同质分层结构属于介质薄膜的层间串联复合结构,且所述同质分层结构化薄膜包括一层第一介质薄膜以及一层或多层第二介质薄膜,所述第一介质薄膜为金属化薄膜,在所述第一介质薄膜所采用基膜表面的一侧真空蒸镀一层导电金属层,所述第二介质薄膜采用的是光膜,一层或多层所述第二介质薄膜层叠在所述第一介质薄膜所采用基膜表面无导电金属层的一侧。
2.根据权利要求1所述的基于介质薄膜同质分层结构的高压金属化薄膜电容器芯子,其特征在于,所述第一介质薄膜所采用的基膜与所述第二介质薄膜所采用的光膜,是相同的薄膜,所述第二介质薄膜不需要镀膜。
3.根据权利要求1或2所述的基于介质薄膜同质分层结构的高压金属化薄膜电容器芯子,其特征在于,所述第一介质薄膜与所述第二介质薄膜的总层数为N,所述第一介质薄膜所采用的基膜和所述第二介质薄膜所采用的光膜的厚度d相同,厚度d与原介质薄膜的厚度D之间的关系为d=D/N。
4.根据权利要求1或2所述的基于介质薄膜同质分层结构的高压金属化薄膜电容器芯子,其特征在于,所述第一介质薄膜所采用的基膜与所述第二介质薄膜所采用的光膜,均采用聚丙烯薄膜。
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