[实用新型]一种电浆蚀刻反应室

权利要求书

1.一种电浆蚀刻反应室，包括机壳，所述机壳的内部具有一腔室，所述腔室的侧边开设有制程气体入口，其特征在于：还包括基座、第一电极、第二电极、铝基板、陶瓷板和遮板，所述基座设在所述腔室的底部，所述的第一电极呈盘状设在所述基座上并用于承载待蚀刻的晶圆，所述的铝基板固设在所述基座上并环接于第一电极的周面上缘，所述的第二电极设在所述腔室的上部，所述的陶瓷板固设在所述第二电极底部，所述的遮板设在所述陶瓷板下方并与所述陶瓷板合围形成电浆室，所述遮板上开设有若干个通孔。

2.如权利要求1所述的一种电浆蚀刻反应室，其特征在于：所述的遮板设有多块，任意相邻的两块遮板上的通孔相互错开设置。

3.如权利要求1或2所述的一种电浆蚀刻反应室，其特征在于：所述的通孔为直孔。

4.如权利要求1或2所述的一种电浆蚀刻反应室，其特征在于：所述的通孔为由上往下孔径逐渐增大的倒角孔，所述倒角孔的倒角角度为40°～89°的通孔。

5.如权利要求1所述的一种电浆蚀刻反应室，其特征在于：所述的第一电极外接射频电源，所述的第二电极外接电感耦合等离子体线圈。

6.如权利要求1所述的一种电浆蚀刻反应室，其特征在于：所述第一电极的内部设有冷却水道，第一电极的下方设有与所述冷却水道相连通的冷却水管，所述的冷却水管连接至外部冰水机。

7.如权利要求1所述的一种电浆蚀刻反应室，其特征在于：所述第一电极的顶部设有一环状嵌槽，所述铝基板的内环嵌设于该嵌槽中。

8.如权利要求1所述的一种电浆蚀刻反应室，其特征在于：所述腔室的底部设有排气口，所述排气口通过管道连接至外部抽气泵浦。

9.如权利要求1所述的一种电浆蚀刻反应室，其特征在于：所述遮板的材质为SiC。