[实用新型]半导体晶片清洗装置

权利要求书

1.一种半导体晶片清洗装置，包括箱体，所述箱体的一侧设有进料口，另一侧设有出料口；所述箱体内设有用于输送半导体晶片的输送组件、用于清洗半导体晶片的清洗组件；其特征在于：所述箱体顶部布设有多个位于所述清洗组件上方的层流罩，所述层流罩的一侧设有排风组件，所述排风组件包括位于箱体内的导流板，所述导流板与箱体内侧壁之间设有排风区；所述排风区的底部设有与所述层流罩的出风口连通的吸风口，顶部设有与外部大气连通的排风口；所述排风口上设置有固接在箱体顶部的集气罩。

2.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于：所述层流罩包括壳体，所述壳体的顶部设有与大气连通的进风口，底部设有与箱体内部连通的出风口；所述壳体内自上而下设置有层流风机、过滤器、均流板，所述层流风机通过管道分别与所述进风口、过滤器连接；所述均流板上设置有若干个与所述出风口连通的均流孔。

3.根据权利要求2所述的清洗装置，其特征在于：所述导流板包括竖直方向的导流主板，所述导流主板的下端设有与之形成折弯结构的一号板，上端设有与之形成折弯结构的二号板；所述一号板与所述箱体内侧壁固接，其上开设有所述吸风口；所述二号板位于所述排风口的下方并与所述箱体内顶壁固接。

4.根据权利要求1-3任一所述的清洗装置，其特征在于：所述输送组件包括自进料口向出料口布设的输送轨道，所述输送轨道上滑动设置有用于装载半导体晶片的移料小车；所述移料小车包括滑动设置在所述输送轨道上的立柱，所述立柱的一侧设有能上下移动的横杆，所述横杆上设有多个用于装夹半导体晶片的晶片槽。

5.根据权利要求4所述的清洗装置，其特征在于：所述清洗组件包括沿所述输送轨道一侧设置的多个清洗槽，每个所述清洗槽远离所述输送轨道的一侧均固接有竖直方向的支架；所述支架上安装有与供液箱连接的喷淋管，所述喷淋管上设有多个对准所述清洗槽的喷淋头。

6.根据权利要求5所述的清洗装置，其特征在于：所述喷淋头可转动地设置在所述喷淋管上。