[实用新型]一种用于加工可控硅的加热设备

权利要求书

1.一种用于加工可控硅的加热设备，包括安装底座（1），所述安装底座（1）的表面开设有限位滑槽（2），所述限位滑槽（2）的内部活动连接有导向滑轮（3），其特征在于：所述导向滑轮（3）的中心轴固定连接有第一连接支柱（4）和第二连接支柱（5），所述第一连接支柱（4）和第二连接支柱（5）的底部通过伸缩固定杆（6）连为一体，所述安装底座（1）顶面的中心处固定安装有固定平台（7），所述固定平台（7）的顶部固定安装有安装支架（8），所述安装支架（8）的顶部固定安装有夹持组件（9），所述第二连接支柱（5）和伸缩固定杆（6）的顶部均活动套接有定位滑块（10），所述定位滑块（10）的外部活动连接有锁紧螺栓（11），所述定位滑块（10）的内侧面固定连接有稳定连接组件（12），所述稳定连接组件（12）的端部固定连接有弧形推块（13），所述弧形推块（13）的内部固定连接有加热组件（14）。

2.根据权利要求1所述的一种用于加工可控硅的加热设备，其特征在于：所述加热组件（14）包括第一加热板（141）和第二加热板（142）两部分，所述第一加热板（141）和第二加热板（142）的内壁均镶嵌安装有组合式电磁加热线圈（143）。

3.根据权利要求2所述的一种用于加工可控硅的加热设备，其特征在于：所述第一加热板（141）和第二加热板（142）为相同直径的半圆弧状构件，所述第一加热板（141）和第二加热板（142）通过外部压力摩擦连接为一个圆环整体。

4.根据权利要求2所述的一种用于加工可控硅的加热设备，其特征在于：所述组合式电磁加热线圈（143）为一个螺旋线圈整体对称分割为两份，分别固定安装在第一加热板（141）和第二加热板（142）的内壁，其断口处与第一加热板（141）和第二加热板（142）的连接处处于同一平面。

5.根据权利要求1所述的一种用于加工可控硅的加热设备，其特征在于：所述稳定连接组件（12）的数量为两个，所述稳定连接组件（12）包括固定块（121），所述固定块（121）的内部开设有若干个限位槽（122），每个限位槽（122）的内部活动套接有稳定弹簧（123）和推杆（124）。

6.根据权利要求1所述的一种用于加工可控硅的加热设备，其特征在于：所述第一连接支柱（4）和第二连接支柱（5）为相同结构构件，且所述第一连接支柱（4）和第二连接支柱（5）的数量均为两个，每个第一连接支柱（4）和第二连接支柱（5）均配备有导向滑轮（3）和定位滑块（10）构成一套整体配件，且所述第一连接支柱（4）和第二连接支柱（5）通过所述伸缩固定杆（6）活动连接为一个支架整体。

7.根据权利要求6所述的一种用于加工可控硅的加热设备，其特征在于：所述定位滑块（10）的数量为四个，每个定位滑块（10）均对应配有锁紧螺栓（11），所述定位滑块（10）通过锁紧螺栓（11）与所述导向滑轮（3）为固定连接。

8.根据权利要求1所述的一种用于加工可控硅的加热设备，其特征在于：所述夹持组件（9）的数量为两个，且每个夹持组件（9）分有两个支臂，支臂的夹持端设有防滑橡胶垫。