[实用新型]一种用于真空溅射镀膜的改良防着板有效
申请号: | 201921763668.6 | 申请日: | 2019-10-21 |
公开(公告)号: | CN210916236U | 公开(公告)日: | 2020-07-03 |
发明(设计)人: | 梅德忠 | 申请(专利权)人: | 苏州德润达电子科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34 |
代理公司: | 宿迁市永泰睿博知识产权代理事务所(普通合伙) 32264 | 代理人: | 刘慧 |
地址: | 215000 江苏省苏州市苏州*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 真空 溅射 镀膜 改良 防着 | ||
本实用新型公开了一种用于真空溅射镀膜的改良防着板,包括防着板本体,上层防着面和下层防着面,所述上层防着面设于防着板本体的上表面,所述下层防着面设于防着板本体的下表面,所述上层防着面和下层防着面由若干防着块和沉积流道组成,所述防着块为梯形块结构,相邻两个防着块中心间距为5‑10mm,相邻两个防着块之间的沉积流道宽为2‑5mm,所述防着块的斜面倾角为45°‑80°,所述防着板本体侧面设有安装孔,所述防着板本体上表面及下表面设有加厚层,加厚层位于安装孔正上方和正下方。本实用新型的优点在于:采用双层防着面增加了防着板的沉淀能力,同时在安装孔位处设有加厚层,防止在几次清洗防着板后安装孔不可用,提高其使用寿命。
技术领域
本实用新型涉及真空溅射镀膜技术领域,具体涉及一种用于真空溅射镀膜的改良防着板。
背景技术
真空溅射镀膜是用带电粒子轰击靶材,使靶材原子从表面逸出飞向基板,沉积成薄膜。但是轰击处的靶材原子不仅会沉积在基板上,还会沉积真空腔体内壁等其他非镀膜区域,造成污染。生产过程中为了避免污染常在真空腔体内壁加设防着板,现有的防着板通常为单面设置为防着面,未设置为防着面的面贴着真空腔体内壁安装,沉淀效果不佳,防着板利用率低,而且其安装螺孔常常会在靶材原子轰击时造成变形,使得在后续清洗防着板时,安装螺孔被消耗而不能用,最终不能不更换防着板。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供了一种用于真空溅射镀膜的改良防着板,其沉淀效果好,利用率高,使用寿命长。
为了实现上述目的,本实用新型提供的技术方案如下:一种用于真空溅射镀膜的改良防着板,包括防着板本体,上层防着面和下层防着面,所述上层防着面设于防着板本体的上表面,所述下层防着面设于防着板本体的下表面,所述上层防着面和下层防着面对称设置,所述上层防着面和下层防着面由若干防着块和沉积流道组成,所述防着块为梯形块结构,相邻两个防着块中心间距为5-10mm,相邻两个防着块之间的沉积流道宽为2-5mm,所述防着块的斜面倾角为45°-80°,所述防着板本体侧面设有安装孔,所述防着板本体上表面及下表面设有加厚层,加厚层位于安装孔正上方和正下方。
进一步的,所述相邻两个防着块中心间距为7mm。
进一步的,所述相邻两个防着块之间的沉积流道宽为3mm。
进一步的,所述防着块的斜面倾角为60°。
进一步的,所述沉积流道作轻微腐蚀处理或喷砂处理或溶射处理。
进一步的,所述加厚层长度大于安装孔深度,所述加厚层宽度大于安装孔直径。
本实用新型的有益效果是:防着板本体两面均设有防着面,防着板利用率高,沉淀效果更好;防着面上的防着块之间的沉积流道作轻微腐蚀处理或喷砂处理或溶射处理,提高了沉淀效果;防着板侧面设有安装孔从而使得防着板可以侧面安装,保证防着板可以正常安装;安装孔对应处设有加厚层,防止在几次清洗防着板后安装孔不可用,提高其使用寿命。
附图说明:
图1是本实用新型的结构示意图;
图2是本实用新型的局部俯视示意图;
图3是本实用新型的局部正视示意图;
图中:1防着板本体、2上层防着面、3下层防着面、4防着块、5沉积流道、6加厚层、 7安装孔。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步详细的描述。
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