[实用新型]50S兰精细旦莫代尔结合20D全衬双面布生产装置有效
申请号: | 201921780724.7 | 申请日: | 2019-10-22 |
公开(公告)号: | CN211620756U | 公开(公告)日: | 2020-10-02 |
发明(设计)人: | 景雪元;宋田林 | 申请(专利权)人: | 湖北吉盛纺织科技股份有限公司 |
主分类号: | D04B1/14 | 分类号: | D04B1/14 |
代理公司: | 北京润平知识产权代理有限公司 11283 | 代理人: | 严政 |
地址: | 443699 湖北省*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 50 精细 旦莫代尔 结合 20 双面 生产 装置 | ||
1.一种50S兰精细旦莫代尔结合20D全衬双面布生产装置,其特征在于,包括:
测试模块、织造模块、第一整理模块、染色模块、第二整理模块和取样模块;
所述测试模块,与所述织造模块连接,用于测试纱线数据;
所述织造模块,与所述第一整理模块连接,用于织造毛坯;
所述第一整理模块,与所述染色模块连接,用于进行抽针及温控;
所述染色模块,与所述第二整理模块连接,用于根据面料结构,对布料进行低张力处理后染色;
所述第二整理模块,与所述取样模块连接,用于减少含水量并进行温控;
所述取样模块,用于取样后进行鉴定。
2.根据权利要求1所述的50S兰精细旦莫代尔结合20D全衬双面布生产装置,其特征在于,所述用于织造毛坯,包括:
采用兰精莫代尔和可溶性20D氨纶进行织造。
3.根据权利要求1所述的50S兰精细旦莫代尔结合20D全衬双面布生产装置,其特征在于,所述用于根据面料结构,对布料进行低张力处理后染色,包括:
根据颜色需求进行打样,满足颜色需求后,根据面料结构,对布料进行低张力处理后染色。
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