[实用新型]一种在可见光高反及在中红外高吸的超材料选择性吸波体有效
| 申请号： | 201921817432.6 | 申请日： | 2019-10-28 |
| 公开（公告）号： | CN211826580U | 公开（公告）日： | 2020-10-30 |
| 发明（设计）人： | 李玉涟;李林植;郭力 | 申请（专利权）人： | 上海海事大学 |
| 主分类号： | G02B1/00 | 分类号： | G02B1/00;G02B5/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 201306 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 可见光 红外 材料 选择性 吸波体 | ||
1.一种在可见光高反及在中红外高吸的超材料选择性吸波体，其包括：三层结构，上层为二氧化硅金字塔体(1)，中层为二氧化硅薄膜(2)，下层为金属薄膜衬底(3)，其特征在于：上层二氧化硅金字塔体(1)、中层二氧化硅薄膜(2)及下层金属薄膜衬底(3)组成基本单元，该基本单元在x-y水平面呈阵列周期分布。
2.根据权利要求1所述的一种在可见光高反及在中红外高吸的超材料选择性吸波体，其特征在于：二氧化硅金字塔体(1)厚度其顶部x方向宽度wux＝1μm～4μm，y方向宽度wuy＝1μm～4μm，底部x方向宽度wlx＝5μm～20μm，y方向宽度wly＝5μm～20μm，二氧化硅金字塔体之间的间隔为i＝0μm～5μm，二氧化硅薄膜(2)厚度hs＝0μm～40μm，金属薄膜衬底(3)膜厚度hAu＝0.05μm～5μm，可以在上述范围内改变二氧化硅金字塔体(1)高度顶部宽度wux和wuy，底部宽度wlx和wly、改变二氧化硅金字塔体(1)之间的间隔i、改变二氧化硅薄膜(2)厚度hs、改变金属薄膜衬底(3)膜厚度hAu，同样可以实现在可见光波段的高反射及在中红外波段的高吸收。
3.根据权利要求1所述的一种在可见光高反及在中红外高吸的超材料选择性吸波体，其特征在于：金属薄膜衬底(3)的材料是金属金、银、铜、钨、铝中的任意一种，二氧化硅金字塔体(1)的材料可换成三氧化二铝或玻璃，二氧化硅薄膜(2)的材料可换成三氧化二铝或玻璃。
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