[实用新型]一种低压低电容TVS器件有效
申请号: | 201921838968.6 | 申请日: | 2019-10-29 |
公开(公告)号: | CN211629113U | 公开(公告)日: | 2020-10-02 |
发明(设计)人: | 王西政 | 申请(专利权)人: | 无锡和达创芯科技有限公司 |
主分类号: | H01L27/02 | 分类号: | H01L27/02 |
代理公司: | 无锡嘉驰知识产权代理事务所(普通合伙) 32388 | 代理人: | 盛际丰 |
地址: | 214135 江苏省无锡市新*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 压低 电容 tvs 器件 | ||
1.一种低压低电容TVS器件,其特征在于,包含衬底(101);形成于衬底之上的缓冲外延层(201);形成于缓冲外延层(201)上的雪崩二极管(D1)和TVS二极管(D3);形成于雪崩二极管(D1)和TVS二极管(D3)上的本征外延层(301);形成于本征外延层(301)之上的普通二极管(D2)和N型注入层(402);沟槽结构(302),所述沟槽结构穿透缓冲外延层(201),深入衬底(101);
所述雪崩二极管(D1)由缓冲外延层(201)和N型埋层(202)形成;所述普通二极管(D2)由P型注入层(401)和本征外延层(301)形成;所述TVS二极管(D3)由本征外延层(301)和缓冲外延层(201)形成。
2.根据权利要求1所述的一种低压低电容TVS器件,其特征在于,所述沟槽结构(302)为沟槽隔离环,所述沟槽隔离环深入衬底5-7um。
3.根据权利要求2所述的一种低压低电容TVS器件,其特征在于,所述沟槽隔离环分为用于将中心区域的二极管单独隔离的内隔离环和用于将整个器件隔离的外隔离环,所述内隔离环与所述外隔离环分别由两道环形成。
4.根据权利要求1所述的一种低压低电容TVS器件,其特征在于,所述缓冲外延层(201)为一层P型调节外延层沉淀。
5.根据权利要求4所述的一种低压低电容TVS器件,其特征在于,所述P型调节外延层沉淀为一层P型18-22微米、14-16毫欧姆厘米的调节外延层淀积。
6.根据权利要求1所述的一种低压低电容TVS器件,其特征在于,所述沟槽结构为2-3道沟槽隔离环。
7.根据权利要求1-6任一所述的一种低压低电容TVS器件,其特征在于,还包含用于引出I/O端的引线金属层(501)。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的