[实用新型]一种辐射面控制系统有效
申请号: | 201921840316.6 | 申请日: | 2019-10-30 |
公开(公告)号: | CN211826537U | 公开(公告)日: | 2020-10-30 |
发明(设计)人: | 胡飞;伍宏飞;苏金龙 | 申请(专利权)人: | 华中科技大学 |
主分类号: | G01T1/00 | 分类号: | G01T1/00 |
代理公司: | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人: | 李智 |
地址: | 430074 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 辐射 控制系统 | ||
1.一种辐射面控制系统,其特征在于,包括:第二层吸波模块(1-4)和滑轨(7);
所述第二层吸波模块(1-4)包括n层吸波单元,位于待测目标上方;所述滑轨(7)固定于第二层吸波模块(1-4)的上方;所述第二层吸波模块(1-4)的中间留有孔洞;工作时,辐射计(9)用于接收孔洞处待测目标的辐射能量和散射能量;n层吸波单元随着滑轨的运动分离,形成不同大小的孔洞,其中,n≥2的整数;孔洞的大小为待测目标的辐射面积(8)。
2.根据权利要求1所述的辐射面控制系统,其特征在于,还包括:第一层吸波模块(5)和支架组件(6);
所述支架组件(6)固定与滑轨(7)的上方,所述第一层吸波模块(5)固定于所述支架组件(6)的上方;所述第一层吸波模块(5)的中间留有预设置的待测目标最大孔洞;所述支架组件(6)的中间位置留有大于等于所述预设置的待测目标最大孔洞的孔洞,避免对所述第一层吸波模块(5)的孔洞的遮挡;所述第一层吸波模块(5)用于限制待测目标的最大辐射孔洞;所述支架组件(6)用于支撑第一层吸波模块(5)。
3.根据权利要求1或2所述的辐射面控制系统,其特征在于,所述第二层吸波模块包括4层吸波单元,用于调节待测目标的辐射面积(8)。
4.根据权利要求1或2所述的辐射面控制系统,其特征在于,所述滑轨(7)的运动方向为预设方向。
5.根据权利要求2所述的辐射面控制系统,其特征在于,所述第一层吸波模块(5)和第二层吸波模块(1-4)设置的孔洞形状互不相同或部分相同或全部相同。
6.根据权利要求2或5所述的辐射面控制系统,其特征在于,所述第一层吸波模块(5)和第二层吸波模块(1-4)设置的孔洞大小互不相同或部分相同。
7.根据权利要求5所述的辐射面控制系统,其特征在于,所述第一层吸波模块(5)中间设置为正方形的孔洞。
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