[实用新型]上胶系统

权利要求书

1.一种上胶系统，其用于在一移动的基材上上胶，所述基材自进料处向出料处移动，其特征在于：自所述进料处至所述出料处，所述上胶系统依次包括有上胶装置、支撑件和刮平辊，所述上胶装置包括有胶槽、上胶辊和与所述上胶辊相对设置的辅助辊，在上胶过程中，所述上胶辊部分位于所述胶槽内。

2.如权利要求1所述的上胶系统，其特征在于：所述支撑件为滚动体。

3.如权利要求2所述的上胶系统，其特征在于：沿着所述基材的移动方向上，所述支撑件和辅助辊的公切线与所述基材上位于所述支撑件和所述刮平辊的内切线上的部分的夹角为6～25度。

4.如权利要求1所述的上胶系统，其特征在于：沿着所述基材的移动方向上，所述辅助辊和所述刮平辊的内切线穿过所述支撑件。

5.如权利要求1所述的上胶系统，其特征在于：所述支撑件的位置可以调整。

6.如权利要求1至5中任意一项所述的上胶系统，其特征在于：所述辅助辊和所述上胶辊之间的间距可调。

7.如权利要求1至5中任意一项所述的上胶系统，其特征在于：所述辅助辊包括有辊体和设置在所述辊体的外侧的弹性体，所述上胶辊的直径小于所述辅助辊的直径。

8.如权利要求1至5中任意一项所述的上胶系统，其特征在于：所述上胶辊具有若干网格凹槽，所述上胶装置包括有刮刀，所述刮刀设置在所述上胶辊的轴心所在的平面的上方。

9.如权利要求1至5中任意一项所述的上胶系统，其特征在于：所述上胶系统包括有设置在所述上胶装置和所述进料处之间的导引辊，所述导引辊的上表面与所述上胶辊的上表面平齐或者高于所述上胶辊的上表面。

10.如权利要求1至5中任意一项所述的上胶系统，其特征在于：所述刮平辊上设置有不粘胶的涂层。