[实用新型]一种化学机械抛光装置

权利要求书

1.一种化学机械抛光装置，其特征在于，所述抛光装置包括夹持件、抛光盘、转动架、喷淋组件和传动机构；

所述夹持件为吸盘式，用于吸附待加工的晶圆，所述夹持件位于抛光轮的空腔内；

所述抛光盘由基座和设置在所述基座上的抛光垫组成，所述基座固定连接在外齿圈上；

所述转动架包括外齿圈、行星轮、太阳轮和抛光轮；所述太阳轮固定连接在支撑架上，所述行星轮同时与太阳轮的外齿和外齿圈的内齿相啮合，且所述行星轮由外齿圈带动，并沿太阳轮中心旋转；所述抛光轮与行星轮啮合传动，所述抛光轮中间为空腔、外圈为外齿的空心轮；

所述喷淋组件包括循环泵、喷淋管；所述循环泵进口与集液槽相连，出口与喷淋管相连，所述喷淋管末端延伸至抛光盘中心位置的上方；

所述传动机构包括电机和连接在电机上的转轴；所述转轴下端可旋转地连接在电机上，上端固定连接在基座上。

2.如权利要求1所述的化学机械抛光装置，其特征在于，所述行星轮沿太阳轮中心环形阵列设置有多个，且所述行星轮通过行星架固定连接在一起；所述行星轮通过连杆连接至抛光轮中心设置的旋转轴，以保持抛光轮始终处于与行星轮啮合且沿太阳轮中心做圆周运动的状态，所述旋转轴上端通过斜杆可旋转地连接在抛光轮外圈的上表面上。

3.如权利要求1所述的化学机械抛光装置，其特征在于，所述抛光垫为双层设置，上层为带绒毛结构的无纺布抛光垫层，所述无纺布抛光垫层厚度为0.5-2mm；下层为聚氨酯抛光垫层，所述聚氨酯抛光垫层厚度为1-20mm。

4.如权利要求1所述的化学机械抛光装置，其特征在于，所述抛光垫表面为螺旋状沟槽结构。

5.如权利要求1所述的化学机械抛光装置，其特征在于，所述喷淋管沿支撑架铺设，且所述喷淋管末端呈环形均匀布置在靠近所述太阳轮位置。