[实用新型]一种水平式MOCVD系统有效
申请号: | 201921847517.9 | 申请日: | 2019-10-30 |
公开(公告)号: | CN211036099U | 公开(公告)日: | 2020-07-17 |
发明(设计)人: | 李世杰;米菁;郝雷;于庆河;杜淼;李帅 | 申请(专利权)人: | 有研工程技术研究院有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/18;C23C16/458 |
代理公司: | 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 | 代理人: | 黄家俊 |
地址: | 101407 北京市怀*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 水平 mocvd 系统 | ||
1.一种水平式MOCVD系统,其特征在于,包括依次布设的载气装置、反应源装置、反应室和真空系统;
所述载气装置包括气瓶(11)和流量计(12),载气装置可提供载气并精准控制其流量;
所述反应源装置由并联布置的气化腔(22)组成,每个气化腔(22)两端各配置一个截止阀(21);每个气化腔(22)中分别安装一个有机反应源容器(24);气化腔(22)外壁缠有加热带(23),可实现气化腔(22)的独立温控,反应源装置可同时满足多种有机反应源的气化条件;气化腔(22)进气口通过KF接口连接,出气口端与密封端盖(31)焊接呈一体;
所述反应室由密封端盖(31)、管式炉(34)和石英管(36)组成,石英管(36)内进气口一侧依次布设过滤网(32)和整流工装(33),石英管(36)内中部设置石墨样品台(38),管式炉(34)包裹在石英管(36)外壁,保证石墨样品台(38)置于管式炉(34)内,石英管(36)两端分别用密封端盖(31)密封,密封端盖(31)中心设有进气口和出气口,进气口和出气口两侧分别连接反应源装置和真空系统,过滤网(32)和整流工装(33)分别用来过滤大颗粒杂质和优化气流均匀分布,管式炉(34)用于控制装填固定样品的温度,并提高其均匀性;
所述真空系统包括依次布设的截止阀(21)、真空计(41)、尾气处理装置(42)和真空泵(43),反应室的反应产物经尾气过滤装置处理后由真空泵排出。
2.根据权利要求1所述的一种水平式MOCVD系统,其特征在于,所述石墨样品台(38)为圆柱体,垂直圆面方向设置圆柱孔道,圆柱孔道贯穿石墨样品台(38),用于放置样品管(37),样品管(37)外径与圆柱孔道的内径相匹配,石墨样品台(38)外径与石英管(36)内径相匹配。
3.根据权利要求1所述的一种水平式MOCVD系统,其特征在于,所述水平式MOCVD系统中均采用胶皮管或不锈钢管相连。
4.根据权利要求1所述的一种水平式MOCVD系统,其特征在于,所述气化腔(22)的个数为≥1。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的