[实用新型]一种水平式MOCVD系统有效

专利信息
申请号: 201921847517.9 申请日: 2019-10-30
公开(公告)号: CN211036099U 公开(公告)日: 2020-07-17
发明(设计)人: 李世杰;米菁;郝雷;于庆河;杜淼;李帅 申请(专利权)人: 有研工程技术研究院有限公司
主分类号: C23C16/455 分类号: C23C16/455;C23C16/18;C23C16/458
代理公司: 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 代理人: 黄家俊
地址: 101407 北京市怀*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 水平 mocvd 系统
【权利要求书】:

1.一种水平式MOCVD系统,其特征在于,包括依次布设的载气装置、反应源装置、反应室和真空系统;

所述载气装置包括气瓶(11)和流量计(12),载气装置可提供载气并精准控制其流量;

所述反应源装置由并联布置的气化腔(22)组成,每个气化腔(22)两端各配置一个截止阀(21);每个气化腔(22)中分别安装一个有机反应源容器(24);气化腔(22)外壁缠有加热带(23),可实现气化腔(22)的独立温控,反应源装置可同时满足多种有机反应源的气化条件;气化腔(22)进气口通过KF接口连接,出气口端与密封端盖(31)焊接呈一体;

所述反应室由密封端盖(31)、管式炉(34)和石英管(36)组成,石英管(36)内进气口一侧依次布设过滤网(32)和整流工装(33),石英管(36)内中部设置石墨样品台(38),管式炉(34)包裹在石英管(36)外壁,保证石墨样品台(38)置于管式炉(34)内,石英管(36)两端分别用密封端盖(31)密封,密封端盖(31)中心设有进气口和出气口,进气口和出气口两侧分别连接反应源装置和真空系统,过滤网(32)和整流工装(33)分别用来过滤大颗粒杂质和优化气流均匀分布,管式炉(34)用于控制装填固定样品的温度,并提高其均匀性;

所述真空系统包括依次布设的截止阀(21)、真空计(41)、尾气处理装置(42)和真空泵(43),反应室的反应产物经尾气过滤装置处理后由真空泵排出。

2.根据权利要求1所述的一种水平式MOCVD系统,其特征在于,所述石墨样品台(38)为圆柱体,垂直圆面方向设置圆柱孔道,圆柱孔道贯穿石墨样品台(38),用于放置样品管(37),样品管(37)外径与圆柱孔道的内径相匹配,石墨样品台(38)外径与石英管(36)内径相匹配。

3.根据权利要求1所述的一种水平式MOCVD系统,其特征在于,所述水平式MOCVD系统中均采用胶皮管或不锈钢管相连。

4.根据权利要求1所述的一种水平式MOCVD系统,其特征在于,所述气化腔(22)的个数为≥1。

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