[实用新型]一种自清洁的反应釜

权利要求书

1.一种自清洁的反应釜，包括釜体(1)，所述釜体(1)上设置有用于搅拌物料的搅拌装置(6)、用于对物料加热的加热装置；所述釜体(1)的上端设置有进料管(2)和进水管(3)，所述釜体(1)的下端设置有出料管(4)；

其特征在于，所述釜体(1)内部设置有用于刮除釜体(1)内侧壁粘结的物料的清洁装置(11)；

所述清洁装置(11)包括刮片(12)、用于将所述刮片(12)连接在釜体(1)内侧壁的安装块(13)和用于驱动刮片(12)上下往复移动的液压缸(14)，所述液压缸(14)贯穿于所述釜体(1)上端。

2.根据权利要求1所述的一种自清洁的反应釜，其特征在于，所述刮片(12)设置有多个，多个所述刮片(12)沿釜体(1)的周向均匀分布。

3.根据权利要求1所述的一种自清洁的反应釜，其特征在于，所述刮片(12)由上到下朝向所述釜体(1)的内侧壁倾斜设置。

4.根据权利要求1所述的一种自清洁的反应釜，其特征在于，所述安装块(13)与所述釜体(1)之间设置有导向组件(21)，所述导向组件(21)包括开设于所述安装块(13)上的导向槽(22)和位于所述釜体(1)内侧壁上竖直设置的导向块(23)，所述导向块(23)与所述导向槽(22)滑移配合。

5.根据权利要求1所述的一种自清洁的反应釜，其特征在于，所述安装块(13)上设有用于安装刮片(12)的安装组件(16)，所述安装组件(16)包括开设于所述安装块(13)下方的安装槽(17)和贯穿于所述安装槽(17)的安装螺栓(18)。

6.根据权利要求5所述的一种自清洁的反应釜，其特征在于，所述刮片(12)插设于所述安装槽(17)中，所述安装槽(17)与刮片(12)之间设有垫片(19)。

7.根据权利要求1所述的一种自清洁的反应釜，其特征在于，所述刮片(12)靠近釜体(1)内侧壁的一侧设置清洁刷(20)。

8.根据权利要求1所述的一种自清洁的反应釜，其特征在于，所述釜体(1)下方开设有清洁口(5)，所述清洁口(5)上盖设有清洁盖(24)，所述清洁口(5)与清洁盖(24)之间设有密封圈(25)。