[实用新型]用于晶体硅铸锭炉的导流装置和晶体硅铸锭炉有效

专利信息
申请号: 201921853547.0 申请日: 2019-10-30
公开(公告)号: CN210826446U 公开(公告)日: 2020-06-23
发明(设计)人: 张细根;胡斌;范立峰 申请(专利权)人: 赛维LDK太阳能高科技(新余)有限公司;江西赛维LDK太阳能高科技有限公司
主分类号: C30B29/06 分类号: C30B29/06;C30B28/06
代理公司: 广州三环专利商标代理有限公司 44202 代理人: 郝传鑫;熊永强
地址: 338004 *** 国省代码: 江西;36
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摘要:
搜索关键词: 用于 晶体 铸锭 导流 装置
【权利要求书】:

1.用于晶体硅铸锭炉的导流装置,其特征在于,包括固定套筒和至少一个中空的导流筒,所述固定套筒用于将所述导流筒固定在所述晶体硅铸锭炉上;所述导流筒两端口之间的筒壁内侧上设有螺旋凹槽,气体经所述导流装置后能形成螺旋气流。

2.如权利要求1所述的导流装置,其特征在于,所述导流筒的筒壁厚度为5-15mm;所述螺旋凹槽的深度占所述导流筒的筒壁厚度的1/3-2/3。

3.如权利要求1所述的导流装置,其特征在于,所述螺旋凹槽的截面宽度为4-8mm。

4.如权利要求1所述的导流装置,其特征在于,所述螺旋凹槽底面的切线与所述导流筒中心轴线的夹角为35-60°。

5.如权利要求1所述的导流装置,其特征在于,所述导流筒的内径为60-70mm。

6.如权利要求1所述的导流装置,其特征在于,所述固定套筒还包括分流腔,所述分流腔与所述导流筒贯通,所述分流腔还用于连通外部气源。

7.如权利要求1所述的导流装置,其特征在于,所述固定套筒套设在所述导流筒的一端,以固定所述导流筒。

8.一种晶体硅铸锭炉,其特征在于,包括炉体,和设置在所述炉体内的坩埚、热交换台、护板、加热器、隔热笼和如权利要求1-7任意一项所述的导流装置,所述坩埚设于所述热交换台上,所述坩埚的外围依次套设所述护板和所述加热器,所述坩埚、所述热交换台、所述护板和所述加热器均设于所述隔热笼内;所述导流装置的所述固定套筒设置在炉体上,所述导流筒依次贯穿所述隔热笼和所述加热器的顶部,并延伸至所述坩埚的开口上部,所述导流筒的长度方向垂直于所述坩埚底部表面。

9.如权利要求8所述的晶体硅铸锭炉,其特征在于,所述导流筒距离所述坩埚开口所在平面的高度为10-15cm。

10.如权利要求8所述的晶体硅铸锭炉,其特征在于,由每个所述导流筒通入的气体的流量为20-30L/min。

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