[实用新型]地漏盖及具有该地漏盖的地漏有效

专利信息
申请号: 201921860819.X 申请日: 2019-10-31
公开(公告)号: CN211172307U 公开(公告)日: 2020-08-04
发明(设计)人: 赵思远;何峰;李翌 申请(专利权)人: 吉博力国际股份公司
主分类号: E03F5/04 分类号: E03F5/04;E03F5/06;E03F5/14
代理公司: 北京市盈科律师事务所 11344 代理人: 金冬冬
地址: 瑞士*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 地漏 具有
【权利要求书】:

1.一种地漏盖,包括上盖板,膜片,盖板座,其特征在于所述膜片在所述盖板座上部,所述上盖板在所述膜片上部,在所述上盖板背部设有至少4个安装柱,所述盖板座上具有至少4个大柱,所述大柱可与所述安装柱匹配,使所述上盖板能够悬空设置在所述盖板座上部,所述盖板座的中部具有排水孔,所述排水孔外边缘与所述所有大柱的连线所围成的中间区域为过滤区,所述过滤区上设有至少10个小柱。

2.如权利要求1所述的地漏盖,其特征在于所述上盖板背部具有加强筋。

3.如权利要求1所述的地漏盖,其特征在于所述小柱在所述过滤区内按照与所述上盖板外边缘形状层层排布,且同一层内小柱之间间距相等。

4.如权利要求1所述的地漏盖,其特征在于所述小柱在所述过滤区内按照圆形或矩形层层排布,且同一层内小柱之间间距相等。

5.如权利要求1所述的地漏盖,其特征在于所述膜片为硅胶材质。

6.如权利要求3或4所述的地漏盖,其特征在于所述小柱排布时层数为3或4层。

7.如权利要求3或4所述的地漏盖,其特征在于所述小柱排布时层与层之间间距相等。

8.一种地漏,包括地漏盖,入水组件和地漏本体组件,其特征在于所述地漏盖为权利要求1-7任意一个权利要求所述的地漏盖,所述地漏盖与所述入水组件连接,所述入水组件在所述地漏本体组件上,所述入水组件外套有密封圈,所述密封圈能与所述地漏本体组件通过摩擦力紧密连接,在所述地漏本体组件内部设有防臭组件。

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