[实用新型]一种复合触发间隙的真空开关灭弧室有效
| 申请号： | 201921866433.X | 申请日： | 2019-11-01 |
| 公开（公告）号： | CN210429659U | 公开（公告）日： | 2020-04-28 |
| 发明（设计）人： | 邹积岩;郭兴宇;黄智慧;王永兴;丛吉远 | 申请（专利权）人： | 大连理工大学 |
| 主分类号： | H01H33/66 | 分类号： | H01H33/66;H01H33/666;H01H33/42;H01H33/28 |
| 代理公司： | 大连理工大学专利中心 21200 | 代理人： | 戴风友 |
| 地址： | 116024 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 复合 触发 间隙 真空开关 灭弧室 | ||
1.一种复合触发间隙的真空开关灭弧室，其特征在于，包括真空开关灭弧室、触发极(8)和支撑瓷柱(9)；所述的触发极(8)设在真空开关灭弧室内的静触头(4)的侧面，触发极(8)的尖端指向静触头(4)的侧面，形成2mm～5mm的复合真空触发间隙；触发极(8)通过固定在真空管金属端盖(10)上的支撑瓷柱(9)引出与控制系统相连；真空开关灭弧室内的动触头(3)采用平板铜铬触头，静触头(4)采用杯状纵磁结构，动触头(3)的直径比静触头(4)大5mm～20mm。
2.如权利要求1所述的一种复合触发间隙的真空开关灭弧室，其特征在于，所述的触发极(8)的材料为钨棒、钼棒或它们的合金，触发极(8)与静触头(4)间为10kV以上的绝缘水平，真空管金属端盖(10)、触发极(8)以及支撑瓷柱(9)之间真空密封。
3.如权利要求1或2所述的一种复合触发间隙的真空开关灭弧室，其特征在于，所述的真空开关灭弧室开距4mm～20mm，工作电压7.2kV～72.5kV，接通电流峰值10kA—200kA，额定长期通流200A—4000A。
4.如权利要求1或2所述的一种复合触发间隙的真空开关灭弧室，其特征在于，所述的触发极(8)的尖端触发电压2kV～20kV。
5.如权利要求3所述的一种复合触发间隙的真空开关灭弧室，其特征在于，所述的触发极(8)的尖端触发电压2kV～20kV。
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