[实用新型]一种用于投影成像的透镜系统有效

专利信息
申请号: 201921867902.X 申请日: 2019-10-31
公开(公告)号: CN210573157U 公开(公告)日: 2020-05-19
发明(设计)人: 南基学 申请(专利权)人: 广东烨嘉光电科技股份有限公司
主分类号: G03B21/20 分类号: G03B21/20
代理公司: 东莞市永桥知识产权代理事务所(普通合伙) 44400 代理人: 蒋亚兵
地址: 523710 广东省东莞市塘*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 投影 成像 透镜 系统
【说明书】:

实用新型系提供一种用于投影成像的透镜系统,包括依次设置的投影源、投影透镜组和出光透镜,投影源靠近投影透镜组的一侧依次设有准直透镜和起偏器,起偏器与投影源之间连接有入光通道,出光透镜靠近投影透镜组的一侧设有检偏器,检偏器与出光透镜之间连接有出光通道。本实用新型在投影源与出光透镜之间设置有起偏器和检偏器,从投影源出射的光线经起偏器调节后再射入投影透镜组,光线需要经检偏器才能射向出光透镜,源自投影源的光线是经过偏振的,能够有效排除其他杂光的影响,且入光通道能够有效避免杂光应经过起偏器偏振,出光通道能够有效避免杂光直接射向出光透镜,提高最终形成投影图案的保真性。

技术领域

本实用新型涉及投影系统,具体公开了一种用于投影成像的透镜系统。

背景技术

投影系统即将物体照明后成像于投影屏上的光学系统,该系统基于动作跟踪技术,适合任何投影机、液晶屏、LED大屏幕、等离子屏幕、数字视屏墙等。

现有技术中,投影系统主要包括投影源、投影透镜组和出光透镜,投影源形成具有特定显示效果的投影光线,投影光线经过投影透镜组调节后从出光透镜出射,出射光线落入投影屏中形成投影图案,现有技术中,投影光线在投影透镜组的调节过程中可能会混入杂光,导致最终出射光线所形成的投影图案保真性低。

实用新型内容

基于此,有必要针对现有技术问题,提供一种用于投影成像的透镜系统,能够有效排除杂光的影响,提高最终形成投影图案的保真性。

为解决现有技术问题,本实用新型公开一种用于投影成像的透镜系统,包括依次设置的投影源、投影透镜组和出光透镜,投影源靠近投影透镜组的一侧依次设有准直透镜和起偏器,起偏器与投影源之间连接有入光通道,出光透镜靠近投影透镜组的一侧设有检偏器,检偏器与出光透镜之间连接有出光通道。

进一步的,入光通道的入口半径和出口半径分别为r和R,rR,入光通道的入口与投影源连接,入光通道的出口与起偏器连接。

进一步的,出光通道的入口半径和出口半径分别为q和Q,qQ,出光通道的入口与检偏器连接,出光通道的出口与出光透镜连接。

进一步的,投影透镜组包括依次设置的第一凸透镜、第一凹透镜和第二凸透镜,第一凸透镜位于第一凹透镜靠近投影源的一侧。

进一步的,出光透镜为凹透镜。

进一步的,检偏器与投影透镜组之间还设有收束透镜。

进一步的,出光透镜靠近检偏器的一侧覆盖有增亮层。

本实用新型的有益效果为:本实用新型公开一种用于投影成像的透镜系统,在投影源与出光透镜之间设置有起偏器和检偏器,从投影源出射的光线经起偏器调节后再射入投影透镜组,光线需要经检偏器才能射向出光透镜,源自投影源的光线是经过偏振的,能够有效排除其他杂光的影响,且入光通道能够有效避免杂光应经过起偏器偏振,出光通道能够有效避免杂光直接射向出光透镜,提高最终形成投影图案的保真性。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。

附图标记为:投影源10、准直透镜11、起偏器12、入光通道13、投影透镜组20、第一凸透镜21、第一凹透镜22、第二凸透镜23、出光透镜30、检偏器31、出光通道32、收束透镜33、增量层34。

具体实施方式

为能进一步了解本实用新型的特征、技术手段以及所达到的具体目的、功能,下面结合附图与具体实施方式对本实用新型作进一步详细描述。

参考图1。

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