[实用新型]一种搅拌均匀的反应釜

说明书

本实用新型涉及一种搅拌均匀的反应釜，包括反应釜本体，反应釜本体下方设置有固定反应釜本体的底座，所述反应釜本体内设置有搅拌轴，搅拌轴伸入反应釜本体内的一端固定连接有若干搅拌叶片，搅拌轴伸出反应釜本体的一端设置有带动搅拌轴转动的转动机构和同时带动搅拌轴上下移动的移动机构。本实用新型其具有将反应釜内的反应物进行充分搅拌的效果。

技术领域

本实用新型涉及反应釜的技术领域，尤其是涉及一种搅拌均匀的反应釜。

背景技术

反应釜是综合反应容器，用来完成水解、中和、结晶、蒸馏、蒸发、储存、恒温反应等工艺过程的容器。在反应过程中需要对反应物进行搅拌，使反应物充分接触，使反应效率提高。如公告号为CN209020380U的中国实用新型专利公开了一种混合均匀的反应釜，包括延伸到反应釜内部的齿条，齿条露出反应釜的一端设置有带动齿条传动的驱动电机，齿条伸入反应釜内部的一端啮合有从动齿轮，从动齿轮中心穿过搅拌轴，搅拌轴上固定连接有主搅拌桨和从搅拌桨，搅拌轴两端通过轴承与反应釜内壁转动连接，驱动电机开启时带动齿条传动，齿条带动从动齿轮和搅拌轴转动，搅拌轴带动主搅拌桨和从搅拌桨转动，从而实现对反应釜内反应物的搅拌。但在实际应用中，若反应物不互溶时会出现分层现象，搅拌桨若只在下层搅拌时，会使在上下两层的反应物不能充分接触，从而影响反应度率。

实用新型内容

针对现有技术存在的不足，本实用新型的目的是提供一种搅拌均匀的反应釜，其具有将反应釜内的反应物进行充分搅拌的效果。

本实用新型的上述实用新型目的是通过以下技术方案得以实现的：一种搅拌均匀的反应釜，包括反应釜本体，反应釜本体下方设置有固定反应釜本体的底座，所述反应釜本体内设置有搅拌轴，搅拌轴伸入反应釜本体内的一端固定连接有若干搅拌叶片，搅拌轴伸出反应釜本体的一端设置有带动搅拌轴转动的转动机构和同时带动搅拌轴上下移动的移动机构。

通过采用上述技术方案，转动机构可以带动搅拌轴和搅拌叶片转动，从而对反应物进行搅拌，移动机构可以使搅拌轴带动搅拌叶片上下移动，从而使反应物进行上下方向的搅拌，并且在搅拌轴上下移动时，电机能够保持在原位，可以使搅拌过程更加稳定。

本实用新型进一步设置为：所述转动机构包括设置在搅拌轴表面的一圈搅拌齿和第一电机，第一电机一端的轴体固定连接有与搅拌齿啮合的转动盘。

通过采用上述技术方案，开启第一电机后，第一电机带动转动盘转动，转动盘通过搅拌齿带动搅拌轴和搅拌叶片转动，搅拌齿的长度时搅拌轴在上下移动时始终保持与转动盘啮合，从而对反应釜本体内的反应物进行搅拌。

本实用新型进一步设置为：所述移动机构包括夹持所述搅拌轴的夹持件，夹持件一端固定连接有杆体，杆体远离夹持件的一端设置有带动杆体摆动的第二电机。

通过采用上述技术方案，第二电机开启时，第二电机带动杆体和夹持件绕第二电机的轴体摆动，夹持件带动搅拌轴上下移动，从而对反应物进行上下方向的搅拌。

本实用新型进一步设置为：所述搅拌轴上固定连接有两个固定块，固定块之间形成凹槽，所述夹持件与凹槽插接。

通过采用上述技术方案，当夹持件绕第二电机的轴体摆动时，夹持件带动搅拌轴上下移动，搅拌轴带动搅拌叶片上下移动，从而使搅拌叶片在上下方向对反应物进行搅拌。

本实用新型进一步设置为：所述夹持件与凹槽插接的末端转动连接有轮子。

通过采用上述技术方案，在搅拌轴上下移动时，搅拌轴也在转动，轮子可以减小夹持件与凹槽之间的摩擦。

本实用新型进一步设置为：所述搅拌轴远离反应釜本体的一端套接有套管，套管远离反应釜本体一端固定连接有顶板，顶板与底座之间通过立柱固定连接。

通过采用上述技术方案，搅拌轴在套管内上下移动，可以使搅拌轴保持竖直。