[实用新型]激光退火系统

权利要求书

1.一种激光退火系统，其特征在于，包括：固定的平台(1)、嵌入在所述平台(1)内的可密封的工艺腔室(2)，以及相对于所述平台(1)可运动的光学系统；所述工艺腔室的腔室空间里只设置有吸附卡盘组件。

2.根据权利要求1所述的激光退火系统，其特征在于，所述工艺腔室(2)从上至下依次包括：位于工艺腔室顶部的激光可透过的密封片材(7)，位于所述密封片材(7)下方的顶部安装部件(3)，与所述顶部安装部件(3)配合的底部安装部件(4)，固定在所述底部安装部件(4)上的吸附卡盘组件。

3.根据权利要求1或2所述的激光退火系统，其特征在于，所述吸附卡盘组件包括与所述底部安装部件(4)邻接的吸附卡盘(5)，设置在所述吸附卡盘(5)上表面的吸附卡盘保护环(6)，以及设置在所述吸附卡盘保护环(6)上方间隔一定高度的晶圆保护环。

4.根据权利要求2所述的激光退火系统，其特征在于，所述顶部安装部件(3)的上表面在围绕所述密封片材(7)的周围设置有出气孔(10)。

5.根据权利要求2所述的激光退火系统，其特征在于，所述底部安装部件(4)设置有气体入口(18)，连通所述气体入口(18)和所述工艺腔室(2)内腔的过渡区域(19)，以及排气口(20)，用于保持所述工艺腔室(2)内的无氧环境。

6.根据权利要求1所述的激光退火系统，其特征在于，所述工艺腔室(2)相对于所述平台(1)的外侧设置有门阀(31)。

7.根据权利要求6所述的激光退火系统，其特征在于，所述门阀(31)上设置有输送待处理样片的开口，并且在所述开口处设置有气体开孔(29,30)。

8.根据权利要求6所述的激光退火系统，其特征在于，所述门阀(31)内侧设置有进气管(27,28)。

9.根据权利要求2所述的激光退火系统，其特征在于，所述密封片材(7)真空吸附在所述工艺腔室(2)的顶部。