[实用新型]一种双室磁控溅射真空镀膜机

权利要求书

1.一种双室磁控溅射真空镀膜机，包括镀膜机座(2)，其特征在于，所述镀膜机座(2)上横向设有磁控基板(4)，所述磁控基板(4)的前后侧均设有磁控溅射装置(5)，所述磁控基板(4)的前后侧均铰接有与其侧面磁控溅射装置(5)可罩设密闭配合的镀膜机罩(6)，且镀膜机罩(6)水平翻转，所述镀膜机罩(6)内侧水平设有载物基台(8)，所述镀膜机座(2)上设有将镀膜机罩(6)与磁控基板(4)之间封闭腔体抽真空的真空发生装置(7)，所述镀膜机座(2)上设有与真空发生装置(7)、磁控溅射装置(5)配合的调节控制箱(3)。

2.根据权利要求1所述的一种双室磁控溅射真空镀膜机，其特征在于，所述镀膜机座(2)内设有储物箱(9)。

3.根据权利要求2所述的一种双室磁控溅射真空镀膜机，其特征在于，所述镀膜机座(2)底侧设有正四轮行走机构(1)，所述正四轮行走机构由四个万向轮组成。

4.根据权利要求1所述的一种双室磁控溅射真空镀膜机，其特征在于，所述调节控制箱(3)与磁控基板(4)均设置在镀膜机座(2)的上侧，且调节控制箱(3)与磁控基板(4)相邻设置，所述真空发生装置(7)设置在远离调节控制箱(3)的一侧。

5.根据权利要求4所述的一种双室磁控溅射真空镀膜机，其特征在于，所述调节控制箱(3)上设有液晶显示屏、真空气压表、电流表、真空发生装置(7)的启停开关、磁控溅射装置(5)的启停开关。

6.根据权利要求1所述的一种双室磁控溅射真空镀膜机，其特征在于，所述镀膜机罩(6)呈半圆柱体状，所述镀膜机罩(6)上设有与其形状相似的槽口，且槽口朝向磁控基板(4)，所述镀膜机罩(6)的一侧与磁控溅射装置(5)一侧的磁控基板(4)铰接，所述镀膜机罩(6)的另一侧设有与磁控基板(4)连接的机械锁(10)。

7.根据权利要求6所述的一种双室磁控溅射真空镀膜机，其特征在于，所述镀膜机罩(6)与磁控基板(4)密封相对的一侧设有密封垫片。