[实用新型]一种氧化还原反应集成系统

权利要求书

1.一种氧化还原反应集成系统，包括氧化反应池（1）和还原反应池（5），其特征在于：所述氧化反应池（1）内腔左侧的顶部连通有进料管（16），所述还原反应池（5）内腔顶部的左侧固定连接有搅拌箱（4），所述氧化反应池（1）和搅拌箱（4）内腔顶部的左侧均连通有第一加料管（15），所述还原反应池（5）左侧表面的顶部固定连接有水泵（12），所述水泵（12）的进水端连通有通管（2），所述通管（2）远离水泵（12）的一侧与氧化反应池（1）内腔右侧的底部连通，所述水泵（12）的出水端贯穿还原反应池（5）并与搅拌箱（4）内腔左侧的顶部连通，所述氧化反应池（1）和还原反应池（5）顶部表面的中心处均固定连接有搅拌电机（14），所述搅拌电机（14）的输出端固定连接有转杆（13），左侧转杆（13）的底部贯穿至氧化反应池（1）内腔的底部，右侧转杆（13）的底部贯穿至搅拌箱（4）内腔的底部，所述转杆（13）表面的两侧均固定连接有搅拌杆（17），所述搅拌箱（4）内腔的底部固定连接有漏斗（3），所述漏斗（3）内腔的底部连通有出料管（6），所述出料管（6）的底部贯穿至搅拌箱（4）的底部，所述还原反应池（5）内腔顶部后侧的中心处贯穿设置有第二加料管（21），所述还原反应池（5）背表面底部的中心处固定连接有推进电机（20），所述推进电机（20）的输出端固定连接有螺纹杆（18），所述螺纹杆（18）的前侧贯穿至还原反应池（5）内腔底部的前侧，所述螺纹杆（18）表面的后侧套设有推板（19），所述还原反应池（5）右侧的底部镶嵌有筛网（8），所述还原反应池（5）右侧的中心处开设有凹槽（11），所述还原反应池（5）右侧表面的中心处固定连接有清洁电机（9），所述清洁电机（9）的输出端贯穿至凹槽（11）内腔的左侧，所述清洁电机（9）输出端的表面套设有主动齿轮（10），所述凹槽（11）内腔底部的两侧均固定连接有第一轴承座（22），两个第一轴承座（22）相对的一侧通过第一轴承活动连接有活动杆（24），所述活动杆（24）的左侧从右至左依次贯穿凹槽（11）和还原反应池（5）并延伸至还原反应池（5）内腔的右侧，所述活动杆（24）的表面且位于凹槽（11）的内腔套设有从动齿轮（23），所述从动齿轮（23）与主动齿轮（10）啮合，所述活动杆（24）表面的顶部和底部且位于还原反应池（5）的内腔固定连接有清洁杆（7）。

2.根据权利要求1所述的一种氧化还原反应集成系统，其特征在于：所述转杆（13）的表面与氧化反应池（1）、还原反应池（5）和搅拌箱（4）的连接处均活动连接，所述搅拌杆（17）的形状不一。

3.根据权利要求1所述的一种氧化还原反应集成系统，其特征在于：所述氧化反应池（1）内腔的底部固定连接有导流块，所述螺纹杆（18）的表面与推板（19）的连接处螺纹连接。

4.根据权利要求1所述的一种氧化还原反应集成系统，其特征在于：所述出料管（6）外表面的中心处固定安装有电磁阀，所述螺纹杆（18）的表面与还原反应池（5）的连接处活动连接。

5.根据权利要求1所述的一种氧化还原反应集成系统，其特征在于：所述还原反应池（5）内腔后侧的底部固定连接有限位板，所述第二加料管（21）的底部贯穿至限位板的底部，所述推板（19）的表面与限位板底部的表面、还原反应池（5）的内壁和搅拌箱（4）的外表面均滑动连接。

6.根据权利要求1所述的一种氧化还原反应集成系统，其特征在于：所述凹槽（11）内腔左侧的顶部固定连接有第二轴承座，第二轴承座的内腔通过第二轴承与清洁电机（9）输出端的表面活动连接。

7.根据权利要求1所述的一种氧化还原反应集成系统，其特征在于：所述主动齿轮（10）的内圈与清洁电机（9）输出端的表面过盈配合，所述从动齿轮（23）的内圈与活动杆（24）的表面过盈配合。

8.根据权利要求1所述的一种氧化还原反应集成系统，其特征在于：所述还原反应池（5）正表面的底部活动连接有活动门，所述从动齿轮（23）的表面与筛网（8）的连接处活动连接，所述螺纹杆（18）表面的后侧和活动杆（24）表面的左侧固定套设有密封圈。