[实用新型]一种常压宽幅等离子体设计结构

说明书

本实用新型涉及等离子技术领域，且公开了一种常压宽幅等离子体设计结构，包括机箱，所述机箱内部的顶部固定连接有电机，所述电机输出抽的右侧固定连接有齿轮三，所述齿轮三的顶部转动连接有齿条，所述齿条的外侧固定连接有支撑架，所述支撑架的底部滑动连接有定位滑块，该常压宽幅等离子体设计结构，通过电机转动带动齿轮三转动，齿轮三转动带动支撑架向右运动，支撑架推动离子喷射枪向右运动，从而到达了用离子喷射枪进行处理宽幅较大的材料，减少生产成本增加，减少因多组离子喷射枪使用造成电磁兼容的相互干扰问题，同时降低电磁兼容的相互干扰问题造成材料处理不理想的问题，减少资源的浪费的效果。

技术领域

本实用新型涉及等离子技术领域，具体为一种常压宽幅等离子体设计结构。

背景技术

随着社会的发展，等离子的运用也越来越广泛，从我们的日常生活到工业、农业、环保、军事、医学、宇航、能源、天体等方面，它都有非常重要的应用价值，如低温等离子体，其内部存在大量的活性粒子比通常的化学反应器所产生的活性粒子种类更多活性更强，就更容易于和所接触的材料表面以及各类气体发生反应，所以说在材料、环保等领域有着极其广泛的应用前景，比如对材料表面改性与对空气净化、大气污染处理等。

在工业使用等离子设备对复杂结构的材料或者尺寸较厚的材料或者中空材料进行处理时，但是有由离子体喷枪的处理范围一般比较小，但是要处理宽幅的复杂结构的材料或者尺寸较厚的材料或者中空材料则需要多组喷枪复合使用，造成生产的成本的增加，同时多组喷枪使用还具有电磁兼容的相互干扰问题，就容易对处理的材料造成未达到其处理的效果，故而提出常压宽幅等离子体设计结构。

实用新型内容

(一)解决的技术问题

针对现有技术的不足，本实用新型提供了一种常压宽幅等离子体设计结构，具备离子体喷枪处理宽幅大的材料的优点，解决了需要多组喷枪复合使用才能进行处理宽幅材料的问题。

(二)技术方案

为实现上述离子体喷枪处理宽幅大的材料的目的，本实用新型提供如下技术方案：一种常压宽幅等离子体设计结构，包括机箱，所述机箱内部的顶部固定连接有电机，所述电机输出抽的右侧固定连接有齿轮三，所述齿轮三的顶部转动连接有齿条，所述齿条的外侧固定连接有支撑架，所述支撑架的底部滑动连接有定位滑块，所述支撑架的右侧固定连接有离子喷射枪，所述离子喷射枪的顶部与底部均固定连接有滑块，所述滑块的外边面滑动连接有定位块，所述机箱左、右侧的底部均固定连接有轴承，所述轴承的内部转动连接有螺纹杆，所述螺纹杆的顶部固定连接有齿轮一，所述齿轮一的顶部转动连接有齿轮二，所述齿轮二的右侧固定连接有T型转杆，所述螺纹杆的外表面螺纹连接有大小相匹配的螺母，所述螺母的左侧固定连接有底板，所述机箱的底部左侧固定连接离子箱。

优选的，所述定位滑块、定位块分别与机箱固定连接，确定定位滑块、定位块与机箱之间的位置关系，定位块固定离子喷射枪运动的方向与为离子喷射枪提供支撑力，所述T型转杆、底板、支撑架分别与机箱滑动连接，支撑架推动离子喷射枪运动，从而达到对宽幅较大的材料的处理，T型转杆便于工作人员转动，底板提供处理材料的安放位置。

优选的，所述定位滑块内部开设有与支撑架大小相匹配的滑槽，滑槽内部光滑减少支撑架滑动的摩擦力与提供支撑架滑动的空间。

优选的，所述定位块的内部开设有与滑块大小相匹配的滑轨一，滑轨一内壁光滑减少滑块滑动时的摩擦力与提供滑块运动的空间。

优选的，所述机箱的内部开设有与底板大小相匹配的滑轨二，滑轨二内壁光滑减少底板滑动时的摩擦力与提供底板运动的空间。

优选的，所述机箱的内部开设有与支撑架大小相匹配的滑孔，滑孔提供支撑架穿插的空间。

优选的，所述定位块之间的距离大于离子喷射枪的直径，防止定位块之间的距离较小无法安装离子喷射枪现象出现。

(三)有益效果