[实用新型]一种提高使用率的磁控溅射柱状靶材有效
| 申请号： | 201921927976.8 | 申请日： | 2019-11-11 |
| 公开（公告）号： | CN210886207U | 公开（公告）日： | 2020-06-30 |
| 发明（设计）人： | 贺平;杨洋 | 申请（专利权）人： | 核工业理化工程研究院 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 天津市宗欣专利商标代理有限公司 12103 | 代理人： | 马倩 |
| 地址： | 300180 *** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 提高 使用率 磁控溅射 柱状 | ||
【权利要求书】：
1.一种提高使用率的磁控溅射柱状靶材，其特征在于：包括管状主体（1），所述主体（1）中间形成中心通孔（2），其管壁上形成两个增厚环（3），所述增厚环（3）的厚度不小于主体（1）的壁厚。
2.根据权利要求1所述的提高使用率的磁控溅射柱状靶材，其特征在于：所述中心通孔（2）为对称设置的阶梯孔，从两端向中间孔径逐渐减小。
3.根据权利要求1所述的提高使用率的磁控溅射柱状靶材，其特征在于：所述中心通孔（2）从外往内的第二段为螺纹孔。
4.根据权利要求1所述的提高使用率的磁控溅射柱状靶材，其特征在于：所述增厚环（3）的底面与主体（1）的管壁之间呈圆弧过渡连接。
5.根据权利要求1所述的提高使用率的磁控溅射柱状靶材，其特征在于：两个所述增厚环（3）以主体（1）的中心对称设置。
6.根据权利要求1所述的提高使用率的磁控溅射柱状靶材，其特征在于：两个所述增厚环（3）之间的距离不小于工作有效段（4）的长度。
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