[实用新型]级联雪崩倍增光电二极管有效
申请号: | 201921931539.3 | 申请日: | 2019-11-11 |
公开(公告)号: | CN211208467U | 公开(公告)日: | 2020-08-07 |
发明(设计)人: | 鞠国豪;程正喜;陈永平 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海技术物理研究所 |
主分类号: | H01L31/107 | 分类号: | H01L31/107;H01L31/0224 |
代理公司: | 上海沪慧律师事务所 31311 | 代理人: | 郭英 |
地址: | 200083 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 级联 雪崩 倍增 光电二极管 | ||
1.一种级联雪崩倍增光电二极管,其特征在于,在衬底(17)上有衬底氧化层(16),在衬底氧化层(16)上从左到右依次有p型电极层I(4)、p型光吸收层(5)、电场调控层I(6)、雪崩倍增层I(7)、n型过渡层(8)、低杂质浓度的电子行进层(9)、电场调控层II(12)、雪崩倍增层II(13)、n型电极层(14),p型电极层II(11)内嵌于低杂质浓度的电子行进层(9)区域内,衬底氧化层(16)上依次排列的各层被电场隔离环层(2)环绕包围,电场隔离环层(2)外侧区域有本征层(1),p型电极层I(4)上有p电极I(3),p型电极层II(11)上有p电极II(10),n型电极层(14)上有n电极(15)。
2.根据权利要求1所述的级联雪崩倍增光电二极管,其特征在于,所述n型过渡层(8)为高杂质浓度的n型区域。
3.根据权利要求1所述的级联雪崩倍增光电二极管,其特征在于,所述低杂质浓度的电子行进层(9)为低杂质浓度的p型区域。
4.根据权利要求1所述的级联雪崩倍增光电二极管,其特征在于,所述衬底(17)上衬底氧化层(16)的厚度为0.1μm~1.0μm。
5.根据权利要求1所述的级联雪崩倍增光电二极管,其特征在于,所述衬底氧化层(16)上各层的厚度一致,厚度为0.1μm~2.0μm。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
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H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
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H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的