[实用新型]晶圆清洁装置及晶圆清洁系统有效

专利信息
申请号: 201921932063.5 申请日: 2019-11-08
公开(公告)号: CN210607200U 公开(公告)日: 2020-05-22
发明(设计)人: 常远 申请(专利权)人: 长鑫存储技术有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;B08B3/02
代理公司: 上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294 代理人: 孙佳胤
地址: 230001 安徽省合肥市蜀山*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 清洁 装置 系统
【权利要求书】:

1.一种晶圆清洁装置,包括清洁刷,用于清洁待清洁晶圆背面的杂质,其特征在于,还包括喷淋器,能够朝向所述晶圆喷淋清洗液,所述清洗液具有导电性,能够释放所述晶圆背面的电荷。

2.根据权利要求1所述的晶圆清洁装置,其特征在于,所述喷淋器包括至少两个喷嘴,均朝向所述晶圆设置,且所述喷嘴中至少包括一个清洗液喷嘴,用于喷淋具有导电性的清洗液。

3.根据权利要求2所述的晶圆清洁装置,其特征在于,所述喷嘴中还包括至少一个去离子水喷嘴,用于喷淋去离子水,且所有所述喷嘴均朝向所述晶圆的背面设置。

4.根据权利要求2所述的晶圆清洁装置,其特征在于,所述清洗液喷嘴喷淋的清洗液包括碳酸溶液。

5.根据权利要求1所述的晶圆清洁装置,其特征在于,还包括控制阀,设置在所述喷淋器的液路上,用于控制所述喷淋器的液路通断。

6.根据权利要求5所述的晶圆清洁装置,其特征在于,还包括流量计,所述流量计设置在所述喷淋器的液路上,用于计量所述喷淋器的喷淋量。

7.根据权利要求6所述的晶圆清洁装置,其特征在于,还包括控制器,所述控制器连接所述流量计以及所述控制阀,并根据所述流量计的测量结果控制所述控制阀的通断。

8.一种晶圆清洁系统,其特征在于,包括如权利要求1至7中任一项所述的晶圆清洁装置,以及清洗液源,所述清洗液源用于提供待喷淋的清洗液,且所述清洗液源连通至所述喷淋器。

9.根据权利要求8所述的晶圆清洁系统,其特征在于,所述喷淋器包括至少一个清洗液喷嘴,用于喷淋清洗液,且所述清洗液喷嘴与所述清洗液源连通。

10.根据权利要求8所述的晶圆清洁系统,其特征在于,所述喷淋器包括至少一个去离子水喷嘴,用于喷淋去离子水,所述喷淋器还包括去离子水源,与所述去离子水喷嘴连通,用于为所述去离子水喷嘴提供喷淋用的去离子水。

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