[实用新型]一种可自清洁及局部降温的回转窑

权利要求书

1.一种可自清洁及局部降温的回转窑，包括：窑筒体(1)，套设于所述窑筒体(1)外周的托轮带(2)，承托设置于所述托轮带(2)下方的承托轮(3)，支撑安装所述承托轮(3)的托轮基座(4)，其特征在于，还包括与所述托轮基座(4)固定连接的支架(5)，固定于所述支架(5)的导管部(6)，设置于所述支架(5)上方并连通于所述导管部(6)的沾水部(8)，设置于所述沾水部(8)下方并固定于支架(5)的刮水部(9)；所述支架(5)设置于所述托轮带(2)与承托轮(3)旋转相靠近一侧，所述沾水部(8)及刮水部(9)均与所述托轮带(2)相接触，所述导管部(6)设置有入水口(7a)。

2.根据权利要求1所述的一种可自清洁及局部降温的回转窑，其特征在于，所述沾水部(8)包括由多孔材料制成的条状构件，所述条状构件与托轮带(2)相接触。

3.根据权利要求2所述的一种可自清洁及局部降温的回转窑，其特征在于，所述沾水部(8)还包括支撑筒(8a)，所述条状构件包括刷水轮(8b)，所述支撑筒(8a)的固定于支架(5)顶部，所述支撑筒(8a)内具有腔体，所述腔体与导管部(6)相连通，所述支撑筒(8a)的表面设置贯通至所述腔体的孔结构，所述刷水轮(8b)可转动套装于所述支撑筒(8a)的外周。

4.根据权利要求2所述的一种可自清洁及局部降温的回转窑，其特征在于，所述条状构件由海绵，或者纺织布，或者无纺布制成。

5.根据权利要求1所述的一种可自清洁及局部降温的回转窑，其特征在于，所述刮水部(9)包括弹性组件(9b)、刮水板(9a)和集水盘(12)，所述弹性组件(9b)固定安装于支架(5)下部，所述刮水板(9a)弹性连接于所述弹性组件(9b)，所述集水盘(12)固定安装于支架(5)并位于所述刮水板(9a)下方，所述刮水板(9a)与托轮带(2)相接触。

6.根据权利要求5所述的一种可自清洁及局部降温的回转窑，其特征在于，所述弹性组件(9b)包括螺栓(9b1)、弹簧(9b2)和螺母(9b3)，所述螺栓(9b1)依次贯穿所述刮水板(9a)上的通孔、所述弹簧(9b2)和所述支架(5)上的通孔，并固定于所述螺母(9b3)，所述弹性组件(9b)为两个以上。

7.根据权利要求1所述的一种可自清洁及局部降温的回转窑，其特征在于，还包括挡水板(10)，所述挡水板(10)固定于所述支架(5)并位于沾水部(8)及刮水部(9)之间，所述挡水板(10)为与所述托轮带(2)间隙配合的圆弧曲面。

8.根据权利要求7所述的一种可自清洁及局部降温的回转窑，其特征在于，还包括若干喷淋头(11)，各个所述喷淋头(11)与所述导管部(6)连通。

9.根据权利要求8所述的一种可自清洁及局部降温的回转窑，其特征在于，所述喷淋头(11)成纵列布置，且所述喷淋头(11)的开口朝向于所述挡水板(10)的轴线上。

10.根据权利要求9所述的一种可自清洁及局部降温的回转窑，其特征在于，所述喷淋头(11)设有两纵列，所述导管部(6)包括连通两侧各个所述喷淋头(11)的支管路(7c)，以及连通所述支管路(7c)与沾水部(8)的主管路(7b)，所述主管路(7b)的下端设置有入水口(7a)。