[实用新型]一种带有等离子结构和熔融结构的新型二燃室

权利要求书

1.一种带有等离子结构和熔融结构的新型二燃室，其特征在于：包括上二燃室（1）和下二燃室（2），所述上二燃室（1）和下二燃室（2）之间设置有等离子室（3），所述等离子室（3）的截面尺寸小于上二燃室（1）和下二燃室（2）的截面尺寸，所述等离子室（3）内设置有等离子枪（6）；所述下二燃室（2）下端设置有熔融装置（4），所述熔融装置（4）下端设置有水淬装置（5）。

2.根据权利要求1所述的新型二燃室，其特征在于：所述熔融装置（4）包括熔融加热装置（9），所述熔融加热装置（9）的熔融温度设置为1200度~1400度。

3.根据权利要求1所述的新型二燃室，其特征在于：所述水淬装置（5）包括水淬槽（10），所述水淬槽（10）内部设置有刮渣板（11）。

4.根据权利要求1所述的新型二燃室，其特征在于：所述上二燃室（1）内的温度大于1100℃。

5.根据权利要求1所述的新型二燃室，其特征在于：上二燃室（1）上设置有排气口（7）。

6.根据权利要求1所述的新型二燃室，其特征在于：上二燃室（1）上部设置有急排口（12），急排口（12）上设置有急排门（13）。

7.根据权利要求1所述的新型二燃室，其特征在于：所述下二燃室（2）的一侧连接有回转窑（8）。

8.根据权利要求2所述的新型二燃室，其特征在于：所述熔融加热装置（9）采用燃气加热装置或等离子炬其中的一种或混合布置。