[实用新型]一种掩膜板框架及掩膜板卡组件有效
申请号: | 201921947917.7 | 申请日: | 2019-11-13 |
公开(公告)号: | CN211403117U | 公开(公告)日: | 2020-09-01 |
发明(设计)人: | 魏盘生 | 申请(专利权)人: | 上海灏谷集成电路技术有限公司 |
主分类号: | G03F1/64 | 分类号: | G03F1/64 |
代理公司: | 上海汇齐专利代理事务所(普通合伙) 31364 | 代理人: | 童强 |
地址: | 200000 上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 掩膜板 框架 板卡 组件 | ||
1.一种掩膜板框架,包括框架本体(1)和掩膜板(5),所述掩膜板(5)上设置有图形区域(6),其特征在于,所述框架本体(1)中部开设有凹槽,所述凹槽内设置有等间隔分布的若干隔条(3),所述隔条(3)将凹槽分隔成若干与掩膜板(5)对应的开口(2),所述隔条(3)侧面以及框架本体(1)内侧安装有用于承载掩膜板(5)的挡条(7)。
2.根据权利要求1所述的一种掩膜板框架,其特征在于,所述开口(2)的面积与掩膜板(5)面积相同或者大于掩膜板(5)的面积。
3.根据权利要求1所述的一种掩膜板框架,其特征在于,所述挡条(7)围成的面积小于掩膜板(5)的面积。
4.根据权利要求1所述的一种掩膜板框架,其特征在于,所述掩膜板(5)与隔条(3)垂直的一侧面上安装有扣板(9),所述框架本体(1)内侧上端开设有与扣板(9)相适应的扣槽(10)。
5.根据权利要求4所述的一种掩膜板框架,其特征在于,所述扣板(9)的厚度大于扣槽(10)的深度,且扣板(9)远离掩膜板(5)一端底部呈弧形结构。
6.根据权利要求4所述的一种掩膜板框架,其特征在于,所述扣板(9)的厚度与扣槽(10)深度相同,且扣板(9)的宽度小于扣槽(10)的宽度。
7.一种掩膜板卡组件,其特征在于,包括将权利要求1-6任一所述的掩膜板(5)压紧在开口(2)内部的压紧件(4),所述压紧件(4)包括转动设置在框架本体(1)上部的转筒(12)、自转筒(12)上部伸入转筒(12)内用于转筒(12)螺纹配合的压杆(11)以及滑动安装在转筒(12)一侧的压板(14),所述转筒(12)侧壁开设有第二滑槽(16),转筒(12)内壁开设有与第二滑槽(16)对应的第一滑槽(15),所述压板(14)一端自第二滑槽(16)延伸至转筒(12)内并与第一滑槽(15)滑动配合,所述压杆(11)底部通过支撑杆(13)与压板(14)相抵。
8.根据权利要求7所述的一种掩膜板卡组件,其特征在于,所述转筒(12)内部还设置有用于支撑压板(14)的弹簧(17)。
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G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
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G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备