[实用新型]伯努利机械手在真空卡盘上放取晶圆的系统有效
申请号: | 201921972043.0 | 申请日: | 2019-11-15 |
公开(公告)号: | CN210897234U | 公开(公告)日: | 2020-06-30 |
发明(设计)人: | 刘效岩;张程鹏;王建;程闻兴 | 申请(专利权)人: | 北京华卓精科科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/683 | 分类号: | H01L21/683;B25B11/00;F17D1/04;F17D3/01 |
代理公司: | 北京头头知识产权代理有限公司 11729 | 代理人: | 刘锋;宋国云 |
地址: | 100084*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 伯努利 机械手 真空 卡盘 上放取晶圆 系统 | ||
本实用新型公开了一种伯努利机械手在真空卡盘上放取晶圆的系统,属于半导体晶圆加工领域。该系统包括伯努利机械手、真空卡盘和气路,所述气路包括第一管路和第二管路,其中:所述第一管路的一端与真空连接,另一端与真空卡盘连接,所述第一管路上设置有第一气动阀;所述第二管路的一端与氮气连接,另一端与真空卡盘连接,所述第二管路上设置有第二气动阀;所述第一管路上设置有第一旁支管路,所述第一旁支管路的一端与大气连接,另一端连接在第一气动阀和真空卡盘之间的第一管路上,所述第一旁支管路上设置有第三气动阀。本实用新型放取晶圆位置准确,减小了晶圆的翘度,降低了晶圆的碎片率。
技术领域
本实用新型涉及半导体晶圆加工领域,特别是指一种伯努利机械手在真空卡盘上放取晶圆的系统。
背景技术
晶圆是指硅半导体集成电路制作所用的硅晶片,是制造半导体芯片的基本材料,由于其形状为圆形,故称为晶圆。
伯努利原理可以形象的表述为:在水流或气流里,如果速度小,压强就大,如果速度大,压强就小。伯努利机械手(吸盘)就是利用了伯努利原理的机械手,机械手的喷气口中喷出的气体(例如氮气等惰性气体)遇到圆盘的表面(例如上表面,当然也可以是下表面,以上表面为例陈述仅仅是示例性的)后,气体自圆盘上表面迅速扩散,使得圆盘上表面的气流速度大于下表面的气流速度,根据伯努利原理可知,此时圆盘下表面的气压大于圆盘上表面的气压,因而使圆盘被吸附在伯努利机械手上。
在晶圆加工过程中,伯努利机械手通过伯努利原理吸附晶圆,把晶圆放在具有真空吸附功能的真空卡盘上后,机械手放开晶圆。同时真空卡盘通过多孔真空吸附把晶圆吸附到真空卡盘上。工艺结束后真空卡盘停止真空吸附,伯努利机械手吸附晶圆,把晶圆从真空卡盘上取下,并带出工艺腔室。
伯努利机械手主要用于吸附薄片小于200um厚度的晶圆,晶圆薄片脆且易碎、翘度大。在伯努利机械手将晶圆放到真空卡盘上时,如果是伯努利机械手先将晶圆放到真空卡盘上,然后真空卡盘再开启真空吸附,那么晶圆容易出现滑片现象,放置的位置出现偏差,影响整张晶圆的工艺效果的均匀性。如果是真空卡盘先开启真空吸附,伯努利机械手再将晶圆放到真空卡盘上,容易导致晶圆的翘度增加,同时易导致晶圆破碎。
在伯努利机械手将晶圆从真空卡盘上取下时,虽然真空卡盘已经停止真空吸附,但是晶圆和真空卡盘之间还存在表面张力,导致晶圆通过表面张力还被吸附在真空卡盘上。伯努利机械手去吸附晶圆时,一种情况是伯努利机械手的吸附力小于表面张力,导致伯努利机械手吸取晶圆失败。第二种情况是是伯努利机械手的吸附力稍大于表面张力,伯努利机械手能把晶圆取走,但是晶圆的翘度会增加,影响晶圆本身的性能,这种情况还容易发生的是伯努利机械手虽然把晶圆从卡盘上取走,但是由于表面张力的作用,晶圆在伯努利机械手上的位置发生偏移,导致伯努利机械手报警,降低了伯努利机械手取片的成功率。第三种情况是伯努利机械手的吸附力远大于表面张力,这样在吸取晶圆的过程中晶圆的碎片率会明显增加。
实用新型内容
为解决上述技术问题,本实用新型提供一种伯努利机械手在真空卡盘上放取晶圆的系统,本实用新型放取晶圆位置准确,减小了晶圆的翘度,降低了晶圆的碎片率。
本实用新型提供技术方案如下:
一种伯努利机械手在真空卡盘上放取晶圆的系统,包括伯努利机械手、真空卡盘和气路,所述气路包括第一管路和第二管路,其中:
所述第一管路的一端与真空连接,另一端与真空卡盘连接,所述第一管路上设置有第一气动阀;
所述第二管路的一端与氮气连接,另一端与真空卡盘连接,所述第二管路上设置有第二气动阀;
所述第一管路上设置有第一旁支管路,所述第一旁支管路的一端与大气连接,另一端连接在第一气动阀和真空卡盘之间的第一管路上,所述第一旁支管路上设置有第三气动阀。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
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H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造