[实用新型]显示基板、显示面板和显示装置有效

专利信息
申请号: 201921973515.4 申请日: 2019-11-15
公开(公告)号: CN210348517U 公开(公告)日: 2020-04-17
发明(设计)人: 许晨 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方技术开发有限公司
主分类号: G06K9/00 分类号: G06K9/00;H01L27/12;H01L21/77
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 许静;刘伟
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示 面板 显示装置
【说明书】:

实用新型提供一种显示基板、显示面板和显示装置。显示基板包括位于衬底基板上的阵列层以及位于所述阵列层远离所述衬底基板一侧的遮光层,所述遮光层上形成有多个成像小孔,所述成像小孔在所述衬底基板上的第一正投影与所述阵列层中的开关晶体管的有源层图形在所述衬底基板上的第二正投影不重叠;所述开关晶体管为与所述阵列层中的驱动晶体管的栅极连接的晶体管。本实用新型能够避免显示灰阶不准确的问题。

技术领域

本实用新型涉及显示技术领域,尤其涉及一种显示基板、显示面板和显示装置。

背景技术

现有技术已经提出将指纹识别集成在显示面板内部的方案,主要原理是利用OLED(有机发光二极管)自发光的特点作为指纹识别的光源,当光照射到手指时,被手指反射回的光线通过设置在背板中的成像小孔后被指纹识别模组接收,对每个成像小孔成的像进行合成分析后可得到指纹的图案信息。

指纹识别内置于OLED显示面板的方式提高了屏占比,但是集成指纹识别的显示面板显示均匀性和显示灰阶准确性有所降低,经过分析发现,由于成像小孔处进行了透光设计,因此,经指纹反射的光线对背板中的电路结构尤其是TFT(薄膜晶体管)器件结构造成影响,导致TFT器件结构的劣化,进而造成显示均匀性和灰阶准确性降低。

实用新型内容

本实用新型的主要目的在于提供一种显示基板、显示面板和显示装置,解决在现有的集成指纹识别的显示面板中,经指纹反射的光线对背板中的电路结构尤其是TFT(薄膜晶体管)器件结构造成影响,导致TFT器件结构的劣化,进而造成显示均匀性和灰阶准确性降低的问题。

为了达到上述目的,本实用新型提供了一种显示基板,包括位于衬底基板上的阵列层以及位于所述阵列层远离所述衬底基板一侧的遮光层,所述遮光层上形成有多个成像小孔,所述成像小孔在所述衬底基板上的第一正投影与所述阵列层中的开关晶体管的有源层图形在所述衬底基板上的第二正投影不重叠;

所述开关晶体管为与所述阵列层中的驱动晶体管的栅极连接的晶体管。

实施时,所述阵列层中的控制晶体管的有源层图形中的沟道区在所述衬底基板上的正投影为第三正投影,所述驱动晶体管的有源层图形中的沟道区在所述衬底基板上的正投影为第四正投影;

所述开关晶体管的有源层图形中的沟道区在所述衬底基板上的正投影为第五正投影;

所述第一正投影的边缘与所述第五正投影之间的最短距离大于所述第一正投影的边缘与所述第三正投影之间的距离;

所述第一正投影的边缘与所述第五正投影之间的最短距离大于所述第一正投影的边缘与所述第四正投影之间的距离;

所述控制晶体管为所述阵列层中的除了所述开关晶体管和所述驱动晶体管之外的晶体管。

实施时,所述显示基板包括设置有成像小孔的第一像素区域和未设置有成像小孔的第二像素区域;

第一像素区域的面积大于第二像素区域的面积。

实施时,所述第一像素区域内的开关晶体管的宽长比小于所述第二像素区域内的开关晶体管的宽长比。

实施时,所述第一正投影与所述阵列层包括的金属图形在所述衬底基板上的正投影不重叠。

实施时,所述成像小孔的直径大于或等于2um而小于或等于20um。

实施时,所述成像小孔的直径大于或等于4um而小于或等于7um。

实施时,所述阵列层包括依次设置于所述衬底基板与所述遮光层之间的所述有源层、栅绝缘层、第一栅金属层、第一绝缘层、第二栅金属层、层间介质层、第一源漏金属层和第二绝缘层;所述显示基板还包括依次设置于所述遮光层远离所述第二绝缘层的一侧的平坦层和阳极层;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;北京京东方技术开发有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;北京京东方技术开发有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201921973515.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top