[实用新型]一种全方位施肥机构

权利要求书

1.一种全方位施肥机构，其特征在于：包括依次布置的放料室(1)、下沉室(2)以及施肥室(3)，所述放料室(1)、下沉室(2)以及施肥室(3)之间相互连通，所述施肥室(3)为圆台结构，且所述施肥室(3)的顶部一侧直径大于底部一侧直径，所述施肥室(3)的侧表面开设有离心孔(4)，所述施肥室(3)的内腔中设置有离心圆台(5)，且所述离心圆台(5)的侧表面固定有分隔板(6)，且所述分隔板(6)的侧表面与所述离心圆台(5)的侧面相平行。

2.根据权利要求1所述的一种全方位施肥机构，其特征在于：所述离心圆台(5)的上下两侧贯穿固定有转轴(7)，所述转轴(7)的底部连接有伺服电机(8)。

3.根据权利要求2所述的一种全方位施肥机构，其特征在于：所述转轴(7)的顶部一侧贯穿下沉室(2)延伸至所述放料室(1)的内腔顶部，且位于所述放料室(1)内的转轴(7)侧表面依次固定有搅拌片(9)。

4.根据权利要求2所述的一种全方位施肥机构，其特征在于：所述伺服电机(8)的顶部一侧插接有安装座(10)，且所述安装座(10)的上表面与所述施肥室(3)的底部相固定，所述安装座(10)的侧表面插接有固定螺丝(11)，所述安装座(10)通过固定螺丝(11)与所述伺服电机(8)的顶部侧表面螺纹连接。

5.根据权利要求4所述的一种全方位施肥机构，其特征在于：所述安装座(10)的两侧分别开设有安装槽(12)。