[实用新型]一种单轴抛光机构

说明书

本实用新型提供了一种单轴抛光机构，属于光学制造技术领域，包括刀柄和研抛组件，研抛组件与刀柄滑动连接，研抛组件能够沿刀柄的轴心线相对于刀柄滑动。本实用新型提供的单轴抛光机构结构简单，利用注气套将压缩气体注入刀柄上的滑槽后，可以带动研抛工具相对于刀柄移动，当研抛组件移动到合适的位置后，保持注气套内的压力稳定，可以对研抛组件的位置进行固定，固定后可以轻易得到具有利于面形修正的近高斯去除函数和利于匀滑的去除函数，从而使其去除效果与以往双旋转研抛工具一致，且研抛组件可以保证抛光刀具在运行过程中的稳定性。

技术领域

本实用新型涉及光学制造技术领域，具体而言，涉及一种单轴抛光机构。

背景技术

随着现代光学技术的发展，对高精度光学元件的需求越来越迫切，同时对光学元件的加工装备和加工工艺的要求也越来越高。计算机控制光学表面成形技术(ComputerControlled Optical Surfacing，CCOS)是20世纪70年代发展起来的一项光学加工技术，与传统加工技术相比，它大大降低了对操作人员经验的依赖性。目前，实际应用中基于沥青或聚氨酯抛光盘的小工具数控抛光技术是应用最广泛的CCOS技术。为了实现不同的去除效果已达到不同的工艺目的，抛光盘有三种不同运动方式，双旋转方式、平转动方式和自转方式。上述三种运动方式中，双旋转方式和平转动方式的去除效果相近，均能获得近高斯型的去除函数，具有较强的修形能力，用于局部面形误差修正。自转方式虽不能获得有利于修面形的近高斯去除函数，但是该方式可以实现均匀研抛，边缘效应抑制效果好，一般用于全面中高频误差匀滑。目前，一般采用双旋转研抛工具实现上述运动，该工具结构复杂，结构稳定性不高，工具运动不平稳，带来的问题是得到的去除函数形状发生畸变，如非回转对称分布。

实用新型内容

本实用新型实施例的目的在于提供一种结构简单、运行稳定且可以获得与以往双旋转研抛工具一致的去除效果单轴抛光机构。

本实用新型的实施例是这样实现的：

基于上述的目的，本实用新型的实施例提供了一种单轴抛光机构，包括刀柄和研抛组件，所述研抛组件与所述刀柄滑动连接，所述研抛组件能够沿所述刀柄的轴心线相对于所述刀柄滑动。

本实用新型提供的单轴抛光机构结构简单，抛光工具可以安装在研抛组件上，然后由研抛组件带动抛光工具相对于刀柄移动，此时抛光工具可以相对于刀柄靠近后者远离，以此可以轻易得到具有利于面形修正的近高斯去除函数和利于匀滑的去除函数，从而使其去除效果与以往双旋转研抛工具一致，且研抛组件可以保证抛光刀具在运行过程中的稳定性。

在本实施例的一种实施方式中：所述刀柄上设置有滑槽和通孔，所述滑槽沿所述刀柄的轴心线延伸，所述研抛组件安装于所述滑槽内，且所述研抛组件的端部与所述滑槽形成一个腔室，所述通孔与所述腔室连通；所述单轴抛光机构还包括控制器，所述控制器通过所述通孔与所述腔室连通，所述控制器用于控制所述腔室的大小。

控制器可以往腔室内充气，也可以将腔室内的气体抽走，当控制器向腔室内充气时，由于腔室内压力增大，会将研抛组件往外推，此时抛光工具与刀柄之间的距离变大，当控制器将腔室内的气体抽走时，腔室内压力变小，会将研抛组件往里吸，此时抛光工具与刀柄之间的距离变小。

在本实施例的一种实施方式中：所述研抛组件包括滑动块和顶针，所述滑动块安装于所述滑槽内，所述滑动块与所述刀柄滑动连接，所述顶针安装于所述滑动块远离所述刀柄的一端，且所述顶针与所述刀柄可拆卸连接。

在使用时，安装不同的抛光工具时可能因为结构不同，需要更换不同的顶针，而滑动块与刀柄的安装时较为复杂请精细的，因此只更换顶针的话更加方便，且不会影响抛光的精确性。