[实用新型]一种纳米级薄膜图案电化学刻蚀加工系统有效
申请号: | 201921995375.0 | 申请日: | 2019-11-18 |
公开(公告)号: | CN211595030U | 公开(公告)日: | 2020-09-29 |
发明(设计)人: | 贺晶莹 | 申请(专利权)人: | 邳州市鑫盛创业投资有限公司 |
主分类号: | B81C1/00 | 分类号: | B81C1/00;B82Y40/00 |
代理公司: | 南京聚匠知识产权代理有限公司 32339 | 代理人: | 沈菊 |
地址: | 221300 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 纳米 薄膜 图案 电化学 刻蚀 加工 系统 | ||
1.一种纳米级薄膜图案电化学刻蚀加工系统,包括具有纳米级孔径的毛细管(1)、电解液暂存容器(2)、支撑密闭箱(6)、运动定位平台(7)、减震平台(9)和加工件放置基座(10);其特征在于所述支撑密闭箱(6)和所述运动定位平台(7)放置在所述减震平台(9),所述支撑密闭箱(6)位于所述运动定位平台(7)正上方且通过软连接结合在一起,所述电解液暂存容器(2)安装在所述支撑密闭箱(6)的上端且大部分处于其内部,所述具有纳米级孔径的毛细管(1)密封地连接在所述电解液暂存容器(2)的下端,所述加工件放置基座(10)由高绝缘材料制作且位于所述具有纳米级孔径的毛细管(1)的下方,且连接在所述运动定位平台(7)的正上方。
2.根据权利要求1所述的一种纳米级薄膜图案电化学刻蚀加工系统,其特征在于纳米级孔径毛细管(1),包括细端(11)和粗端(12),所述细端(11)孔径可达10-20nm。
3.根据权利要求1所述的一种纳米级薄膜图案电化学刻蚀加工系统,其特征在于电解液暂存容器(2),包括下端的快速插拔口(21)和上端的电解阳极口(22)和电解液入口(23),内盛有刻蚀对应薄膜材料的电解液,所述电解液暂存容器(2)的电解液入口(23)通过连接软管(41)与电解液流出控制系统(4)连接;所述电解阳极口(22)内安装有电解系统(3)的电解阳极(31)。
4.根据权利要求3所述的一种纳米级薄膜图案电化学刻蚀加工系统,其特征在于电解系统(3),包括通过导线依次连接的电解阳极(31)、直流稳压电源(32)、微电流传感器(33)和阴极固定装置(34),所述电解阳极(31)的上端安装于电解阳极口(22)大部分浸没所述电解液暂存容器(2)内电解液中,所述微电流传感器(33)的信号输出端连接到控制计算机(111)上,所述阴极固定装置(34)固定于加工件放置基座(10)的四周,所述阴极固定装置(34) 由高导电材料制作而成,且接触被加工薄膜位置表面镀金。
5.根据权利要求4所述的一种纳米级薄膜图案电化学刻蚀加工系统,其特征在于控制计算机(111),具有根据所述微电流传感器(33)的信号控制三维纳米级平台(71)Z轴运动的控制程序、根据加工图案控制所述三维纳米级平台(71)X和Y轴运动的控制程序、根据湿度控制系统(5)中湿度计(51)信号控制气体循环泵(54)启停的控制程序、根据显微视觉摄像机(8)控制升降平台(72)运动的控制程序和根据所述显微视觉摄像机(8)控制电动升降装置(43)。
6.根据权利要求5所述的一种纳米级薄膜图案电化学刻蚀加工系统,其特征在于湿度控制系统(5),其包括湿度计(51)、循环气体出气管(52)、循环气体进气管(53)、气体循环泵(54)和纯水瓶(55),湿度计(51)位于所述支撑密闭箱(6)内,其信号输出端连接于所述控制计算机(111),所述循环气体出气管(52)和循环气体进气管(53)的一端连接在所述支撑密闭箱(6)中固定罩(61)的外壁上;显微视觉摄像机(8),固定在支撑密闭箱(6)的运动罩(63)上,其视频输出端连接在所述控制计算机(111)上。
7.根据权利要求3所述的一种纳米级薄膜图案电化学刻蚀加工系统,其特征在于电解液流出控制系统(4),包括连接软管(41)、锥形电解液容器(42)和电动升降装置(43),所述锥形电解液容器(42)放置于电动升降装置的运动部分,且底部与连接软管(41)连接,所述连接软管(41)的长度是锥形电解液容器(42)底部与电解液入口(23)之间距离的两倍以上,所述电动升降装置(43)的电机控制端与控制计算机(111)连接。
8.根据权利要求1所述的一种纳米级薄膜图案电化学刻蚀加工系统,其特征在于支撑密闭箱(6),包括固定罩(61)、波纹软连接(62)、运动罩(63)和支撑腿(64)组成,所述固定罩(61)通过所述支撑腿(64)固定在所述减震平台(9)上,所述运动罩(63)固定在所述加工件放置基座(10),且在加工过程中同其一起运动,所述固定罩(61)和所述运动罩(63)之间通过波纹软连接(62)连接在一起;运动定位平台(7),包括三维纳米级平台(71)和升降平台(72)组成,所述三维纳米级平台(71)和升降平台(72)的控制端连接在控制计算机(111)上。
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