[实用新型]一种硅片抛光垫清洗装置

说明书

本实用新型提供一种硅片抛光垫清洗装置，包括用于储存清洗液的第一水槽和第二水槽、用于清洗上抛光垫和下抛光垫的刷子以及用于控制所述刷子移动的机械臂；所述刷子上端面与所述上抛光垫接触，所述刷子下端面与所述下抛光垫接触；所述第一水槽通过第一水管与所述第二水槽连通，所述第二水槽通过所述第二水管与所述刷子连通；设置在所述刷子上下端部的喷嘴均与所述机械臂轴线成一定角度。本实用新型还提出一种硅片抛光垫清洗方法。本实用新型提出的清洗装置，可完全去除抛光垫表面附着的SiO₂胶体颗粒、抛光药液和硅粉，自动化程度高，清洗效果好且效率高。

技术领域

本实用新型属于半导体硅片抛光技术领域，尤其是涉及一种硅片抛光垫清洗装置。

背景技术

化学机械抛光可以获得较为平整的表面，又可以得到较高的抛光速率，得到的平整度比其他方法高两个数量级，是能够实现全局平面化的有效方法。但是在化学机械抛光的过程中抛光液中部分SiO₂胶体颗粒会团聚在一起形成较大的颗粒，这样的大颗粒会在抛光的过程中附着在较为粗糙的抛光垫上,随着抛光的次数增加，附着在抛光垫上的SiO₂胶体大颗粒会越来越多，导致硅片表面在抛光的过程中产生划伤。现有化学机械抛光由于结构设计的不合理，容易出现漏刷现象，很多SiO₂胶体颗粒清理不干净，而且抛光垫上还残留抛光液和硅粉，导致清洗的效果不好，后续抛光出现很多不良品，严重影响产品质量。

实用新型内容

本实用新型要解决的问题是提供一种硅片抛光垫清洗装置，解决了现有对抛光垫清洗时容易出现漏刷且清洗效果差的技术问题，完全去除抛光垫表面附着的SiO₂胶体颗粒、抛光药液和硅粉，自动化程度高，清洗效果好且清洗效率高。

为解决上述技术问题，本实用新型采用的技术方案是：

一种硅片抛光垫清洗装置，包括用于储存清洗液的第一水槽和第二水槽、用于清洗上抛光垫和下抛光垫的刷子以及用于控制所述刷子移动的机械臂；所述刷子上端面与所述上抛光垫接触，所述刷子下端面与所述下抛光垫接触；所述第一水槽通过第一水管与所述第二水槽连通，所述第二水槽通过第二水管与所述刷子连通；设置在所述刷子上下端部的喷嘴均与所述机械臂轴线成一定角度。

进一步的，所述角度为60°。

进一步的，所述刷子中心轴线分别与所述上抛光垫端面和所述下抛光垫端面垂直；在所述刷子内部设有T型结构的通道，所述第二水管贯穿所述机械臂与所述通道一端连通，所述喷嘴与所述通道另两端连通。

进一步的，所述刷子上下端面均设有喷嘴组件，所述喷嘴置于所述喷嘴组件中部；所述喷嘴组件悬空设置在所述刷子端面中心轴线处且沿所述刷子长度方向向外延伸设置。

进一步的，所述喷嘴组件还包括用于卡固所述喷嘴的套夹和用于调节所述喷嘴角度的调节件，所述喷嘴、所述套夹和所述调节件从内向外依次设置。

进一步的，所述刷子上下端面还设有毛刷组件，所述毛刷组件与所述喷嘴组件同向设置，所述毛刷组件置于所述喷嘴组件外侧，所述毛刷组件与所述喷嘴组件之间有空隙。

进一步的，所述毛刷组件包括管状结构的毛刷座，所述毛刷座一端与所述刷子的刷体连接，另一端设有第一刷头和第二刷头，所述第一刷头和所述第二刷头沿所述毛刷座周缘同向均匀设置。

进一步的，设置在所述刷子侧面设有向外延伸垂直设置的连接组件，所述连接组件包括连接盘和进水头，所述进水头内置于所述连接盘中。

进一步的，所述机械臂包括第一机械臂和与所述第一机械臂铰接的第二机械臂，所述第一机械臂通过转接件与所述连接盘连接。

进一步的，在所述第一水槽内设有低压水泵；在所述第二水槽内设有高压水泵。