[实用新型]真空过滤装置及系统

说明书

本实用新型公开了一种真空过滤装置及系统。真空过滤装置包括：一箱体；分别位于所述箱体两端的进气口和排气口；位于所述进气口和所述排气口之间的过滤器，所述过滤器连接于所述箱体的顶板和底板之间；以及，设置于所述顶板和所述底板中的介质通路，其中，所述过滤器包括：相互交错间隔排列的梳状板，所述梳状板用于提供之字形的气体通路。通过梳状板所提供的之字形气体通路和冷却介质的作用，使得自真空腔排出的含有掺杂剂的气体能冷凝于梳状板上，保护下游的真空泵组件，延长真空泵的保养周期。

技术领域

本实用新型涉及一种过滤器和过滤系统，特别涉及一种用于真空设备的冷凝过滤器和系统。

背景技术

在半导体工业中，真空泵的使用是非常频繁的。为了适应不同真空度的需求，可以采用不同类型的真空泵(分子泵、干泵及油泵)。在半导体掺杂工艺中，真空腔中除了会存在磷、锑、砷、癸硼烷(B₁₀H₁₄)、十六硼烷(B₁₆H₂₀)等掺杂剂，还会有水汽、油蒸汽等杂质的存在。由此一来，在抽真空时，这些杂质会进入真空腔下游的真空泵中，对真空泵造成污染，影响真空泵的抽真空效率，缩短真空泵的保养周期，严重者，甚至影响了真空泵的使用寿命。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是为了克服现有技术中的缺陷，提供一种真空过滤装置及系统。

本实用新型是通过下述技术方案来解决上述技术问题的：

一种真空过滤装置，其特点在于，其包括：

一箱体；

分别位于所述箱体两端的进气口和排气口；

位于所述进气口和所述排气口之间的过滤器，所述过滤器连接于所述箱体的顶板和底板之间；以及，

设置于所述顶板和所述底板中的介质通路，

其中，所述过滤器包括：相互交错间隔排列的梳状板，所述梳状板用于提供之字形的气体通路。在较低真空下，气体分子的平均自由程(气体分子在相互碰撞的间隔断平均所经过的路程)较长，如果平均自由程接近或大于所述真空腔体尺寸时，气体分子的运动方向在分子碰到腔壁前一般有很少的概率会与其它气体分子发生碰撞或运动方向受到干扰，通过使用本装置，气流在上下交错的梳状板间走的是“之”字形路线，气体分子在没有经过无数次运动方向变换的情况下是无法从抽气孔到达排气孔的，所以那些动能较大的气体分子也会在每次与冷却板碰撞后，损失部分能量，经过多次碰撞分子动能丧失殆尽，最终被梳状板捕获。

优选地，所述进气口连接于真空腔室，或者连接于靠近真空腔室的高真空度的真空泵的排气口，所述高真空度的真空泵的真空范围为10^-7Torr–10^-1Torr(压强单位，760Torr为一个标准大气压)。在不同真空级别的真空泵串接应用情况下，优先地进气口连接于靠近真空腔室的高真空级别真空泵的排气口。在几种不同真空级别真空泵串接应用时(例如：分子泵–干泵–气环泵–排风扇)，高真空级别的真空泵通常以分子泵为典型代表。

优选地，所述排气口连接于初级泵的进气口，所述初级泵的真空范围为10^-3Torr–10Torr。

优选地，所述过滤器可拆卸的连接于所述顶板和所述底板之间。

优选地，相邻所述梳状板之间的间隙为1mm-5mm。主要目的是让气体分子最大限度地流经整个过滤器路径，并在两相邻梳状板间隙中的气体分子流动方向是相反的，从而增加气体分子对冷却板的碰撞几率，有效降低气体分子温度，达到冷凝沉积效果。

优选地，所述介质通路中用于通入冷却介质，所述冷却介质的温度低于进入所述进气口的气体的液化温度或固化温度。

优选地，所述真空过滤装置还包括设置于所述箱体外部的隔热保温层。